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CPS納米粒度分析儀有別于傳統(tǒng)方法的優(yōu)勢(shì)

閱讀:863      發(fā)布時(shí)間:2022-2-28
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 CPS納米粒度分析儀,有別于傳統(tǒng)方法,通過(guò)差示離心沉降原理為顆粒的精細(xì)區(qū)分提供新的解決方案
  這種原理有以下幾點(diǎn)優(yōu)勢(shì):
  分辨率高:
  同激光散射和顆粒計(jì)數(shù)法等方法比較,該方法有非常高的分辨率。對(duì)于只有 1%的顆粒差異分布的時(shí)候,該方法測(cè)定的結(jié)果仍然有好的分離效果。您能看到的是顆粒分布本身,而不是分布顆粒的混合圖。
  靈敏度高:
  低至 10-8 g 的樣品就可以滿(mǎn)足日常分析需要。
  重復(fù)性高:
  樣品結(jié)果在95%的典型置信度下,連續(xù)重復(fù)分析峰的重復(fù)性小 于+/-1% 或更好。
  快速、高精度數(shù)模(A/D)轉(zhuǎn)換:
  可用信號(hào)分辨率(即軟件操作的對(duì)象)決定于  數(shù)模轉(zhuǎn)換的過(guò)程。CPS系統(tǒng)使用的數(shù)模  轉(zhuǎn)換  可以實(shí)現(xiàn)在每秒31次取樣時(shí)保持20位以上的精  度,幾百萬(wàn)分之一的誤差。
  CPS高精度納米粒度儀的技術(shù)優(yōu)勢(shì)
  分辨率很高,它有效地結(jié)合了高速離心沉降(ZG24000轉(zhuǎn)/分)和激光法的優(yōu)點(diǎn),使得整個(gè)儀器能夠達(dá)到*的分辨率,優(yōu)良的靈敏度和重復(fù)性.
  同激光散射和顆粒計(jì)數(shù)法比較,該方法有非常高的分辨率,能夠輕松鑒別雜質(zhì)顆粒,污染顆?;蛘咄鈦?lái)顆粒。半峰寬為峰值粒度 1%,也就是說(shuō)對(duì)于峰值差異只有1%的相鄰粒度兩個(gè)粒度峰,該儀器都可以有效地檢測(cè)并區(qū)分開(kāi)來(lái)。儀器的分辨率如此高,得到的顆粒分布幾乎不受儀器的影響,測(cè)量終得到的是真實(shí)、可靠的顆粒分布。
  *的靈敏度, 低于10-8 g 活性樣品可以得到,少可以分析小于毫克乃至微克級(jí)的樣品。
  高度可重復(fù)性的樣品結(jié)果; 連續(xù)重復(fù)分析峰的重復(fù)性小于±1% 或更好。
  連續(xù)的離心操作;在分析連續(xù)樣品的時(shí)候,不需要儀器停止來(lái)清洗,需要極少的人工。
  和傳統(tǒng)沉降法比較,更快的分析時(shí)間。速度的優(yōu)勢(shì)是基于更快的圓盤(pán)轉(zhuǎn)速以及更快的儀器檢測(cè)器響應(yīng)。采用多階速度,分析速度可以小于通常情況下的1/20。

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