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目錄:青島天仁微納科技有限責(zé)任公司>>納米壓印設(shè)備>> GL300 Cluster納米壓印光刻生產(chǎn)線

GL300 Cluster納米壓印光刻生產(chǎn)線
  • GL300 Cluster納米壓印光刻生產(chǎn)線
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 品牌 天仁微納
  • 型號(hào)
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 青島市
屬性

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更新時(shí)間:2024-08-22 16:33:20瀏覽次數(shù):456評(píng)價(jià)

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GL300 Cluster全自動(dòng)納米壓印光刻生產(chǎn)線是模塊化的全自動(dòng)納米壓印生產(chǎn)線,集成了從納米壓印基底清洗、涂膠、烘烤、冷卻直至納米壓印全套工藝步驟。標(biāo)配天仁微納CLIV(Contact Litho in Vacuum)壓印技術(shù),可實(shí)現(xiàn)200/300mm基底面積上全自動(dòng)高精度(優(yōu)于10nm )、高深寬比(優(yōu)于10比1 )納米結(jié)構(gòu)復(fù)制量產(chǎn)。

GL300 Cluster全自動(dòng)納米壓印光刻生產(chǎn)線是模塊化的全自動(dòng)納米壓印生產(chǎn)線,集成了從納米壓印基底清洗、涂膠、烘烤、冷卻直至納米壓印全套工藝步驟。標(biāo)配天仁微納CLIV(Contact Litho in Vacuum)壓印技術(shù),可實(shí)現(xiàn)200/300mm基底面積上全自動(dòng)高精度(優(yōu)于10nm )、高深寬比(優(yōu)于10比1 )納米結(jié)構(gòu)復(fù)制量產(chǎn)。設(shè)備采用模塊化設(shè)計(jì),用戶可以根據(jù)工藝需求和生產(chǎn)節(jié)奏自由配置清洗、涂膠、烘烤、冷卻、Plasma表面處理、AOI檢測(cè)、Post Cure以及壓印的模塊數(shù)量,達(dá)到生產(chǎn)效率。設(shè)備支持自動(dòng)工作模具復(fù)制、工作模具自動(dòng)更換、自動(dòng)預(yù)處理和壓印、自動(dòng)脫模,整個(gè)工藝過(guò)程在密閉潔凈環(huán)境中進(jìn)行,以保證壓印結(jié)果質(zhì)量。

GL300 Cluster納米壓印設(shè)備適用于DOE、AR/VR衍射光波導(dǎo)(包括斜齒光柵)、線光柵偏振、超透鏡、生物芯片、LED、微透鏡陣列等應(yīng)用領(lǐng)域的大規(guī)模量產(chǎn)。

主要功能

●全自動(dòng)200/300mm大面積、高精度、高深寬比納米壓印生產(chǎn)線
●確保壓印結(jié)構(gòu)精度與結(jié)構(gòu)填充完整性
●設(shè)備內(nèi)自動(dòng)復(fù)制柔性復(fù)合工作模具,降低大面積納米壓印模具使用成本
●全自動(dòng)預(yù)處理步驟,包括基材兆聲波清洗、旋涂勻膠、烘烤、冷卻
●自動(dòng)壓印、自動(dòng)曝光固化、自動(dòng)脫模,工藝過(guò)程在局部潔凈環(huán)境中自動(dòng)進(jìn)行,以保證壓印質(zhì)量
●標(biāo)配高功率紫外LED面光源(365nm,光強(qiáng)>1000mW/cm2 ),水冷冷卻,特殊功率以及特殊、混合波長(zhǎng)光源可訂制,支持各種商用納米壓印材料

●產(chǎn)能可大于100片每小時(shí),適合DOE、AR/VR衍射光波導(dǎo)(包括斜齒光柵)、生物芯片、LED等應(yīng)用領(lǐng)域的量產(chǎn)
●隨機(jī)提供全套納米壓印工藝與材料,包括DOE、AR斜齒光柵、高密度、高深寬比結(jié)構(gòu)等工藝流程,幫助客戶零門(mén)檻達(dá)到高質(zhì)量的納米壓印水平

GL300 Cluster全自動(dòng)納米壓印光刻生產(chǎn)線設(shè)備照片

相關(guān)參數(shù)

兼容基底尺寸 200mm、300mm 特殊尺寸可定制
支持基底材料 硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等
上下片方式 Cassette to cassette全自動(dòng)上下片
晶圓預(yù)對(duì)位 光學(xué)巡邊預(yù)對(duì)位
納米壓印技術(shù) CLIV技術(shù),適合高精度、高深寬比納米結(jié)構(gòu)壓
納米壓印預(yù)處理工藝步驟 CLIV技術(shù),適合高精度、高深寬比納米結(jié)構(gòu)壓印、清洗(毛刷、二流體、兆聲波)、旋涂勻膠、加熱烘烤、冷卻、plasma表面處理
壓印精度 優(yōu)于10納米*
結(jié)構(gòu)深寬比 優(yōu)于10比1*
殘余層控制 可小于10nm*
紫外固化光源 紫外LED(365nm)面光源,光強(qiáng)>200mW/cm2,水冷冷卻(2000mW/cm2類型光源可選配)
設(shè)備內(nèi)部環(huán)境控制 標(biāo)配,外部環(huán)境Class 100,內(nèi)部環(huán)境可達(dá)Class 10*
自動(dòng)壓印 支持
自動(dòng)脫模 支持
自動(dòng)工作模具復(fù)制 支持
自動(dòng)工作模具更換 支持
模具基底對(duì)位功能 自動(dòng)對(duì)位(選配)
Post Cure 選配
AOI在線檢測(cè)
選配
產(chǎn)能 可大于100片每小時(shí)*

 

 

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