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貨物所在地：山東青島市
更新時間：2024-10-06 21:00:07
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GL Plasma等離子體清洗設(shè)備主要應(yīng)用于活化，提升附著力和清洗等工藝。
●適用于大300mm直徑以下晶圓或者330×400mm基材（軟工作模具基材）
●適用于清洗納米壓印基底表面
●適用于納米壓印基底表面增粘、激活、改性
●適用于增加工作模具基材與模具復(fù)制材料粘附性
(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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