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貨物所在地:山東青島市
更新時(shí)間:2024-10-06 21:00:07
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GL SR300 300mm步進(jìn)式納米壓印光刻/拼版設(shè)備是一種步進(jìn)式紫外納米壓印設(shè)備,可以在300mm尺寸基底上加工精度優(yōu)于20納米的三維結(jié)構(gòu),還可以用于將小面積納米壓印模具通過步進(jìn)式壓印拼接成大面積壓印母模具。
GL SR300是一種步進(jìn)式紫外納米壓印設(shè)備,可以在300mm尺寸基底上加工精度優(yōu)于20納米的三維結(jié)構(gòu),還可以用于將小面積納米壓印模具通過步進(jìn)式壓印拼接成大面積壓印母模具。
通常納米壓印模具的加工需要利用的電子束或者激光直寫技術(shù)、刻蝕技術(shù)等,加工大面積納米壓印母模具成本極其高昂,技術(shù)可行性很低。通過GL SR300步進(jìn)式納米壓印技術(shù)可以將小面積納米壓印模具拼接成大面積納米壓印母模具,然后從大面積母模具可以復(fù)制大面積工作模具,用來進(jìn)行大幅面壓印。這種方式可以大大降低納米壓印模具成本,使得低成本納米壓印生產(chǎn)成為可能。
●300mm步進(jìn)式紫外納米壓印
●支持從微透鏡復(fù)制到整面微透鏡陣列模具,用做晶圓級光學(xué)加工母模具
●支持從小面積高精度納米結(jié)構(gòu)模具復(fù)制到大幅面模具,用作CLIV全副面壓印母模具
●支持各種模具材質(zhì)與形狀
●支持旋涂壓印膠基底步進(jìn)式壓印復(fù)制,適用于高精度納米結(jié)構(gòu)模具拼接
●設(shè)備自帶點(diǎn)膠裝置,支持點(diǎn)膠步進(jìn)式壓印復(fù)制,適用于微透鏡陣列等晶圓級光學(xué)結(jié)構(gòu)模具拼接
●標(biāo)配高功率紫外LED面光源(365nm,光強(qiáng)>200mW/cm2 ),水冷冷卻,特殊功率以及特殊、混合波長光源可訂制,支持各種商用納米壓印材料
●標(biāo)配設(shè)備內(nèi)部潔凈環(huán)境與除靜電裝置
●高精度閉環(huán)控制位移平臺,定位精度優(yōu)于1μm
兼容基底尺寸 | <300mm方形 |
支持基底材料 | 硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等 |
納米壓印技術(shù) | 步進(jìn)式納米壓印 |
壓印精度 | 優(yōu)于20納米* |
結(jié)構(gòu)深寬比 | 優(yōu)于10比1* |
殘余層控制 | 可小于10nm* |
紫外固化光源 | 紫外LED(365nm)面光源,光強(qiáng)>1000mW/cm2,水冷冷卻(2000mW/cm2類型光源可選配) |
設(shè)備內(nèi)部環(huán)境控制 | 標(biāo)配,外部環(huán)境Class 100,內(nèi)部環(huán)境可達(dá)Class 10 |
自動壓印 | 支持 |
自動脫模 | 支持 |
自動工作模具復(fù)制 | 支持 |
自動點(diǎn)膠 | 選配 |
單次壓印面積 | 50x50mm |
定位精度 | 優(yōu)于1μm |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)