真空鍍膜機(jī)是一種在真空環(huán)境下，通過物理或化學(xué)方法（如蒸發(fā)、濺射等）將材料氣化并沉積到工件表面形成薄膜的設(shè)備。它廣泛用于光學(xué)、電子、裝飾等領(lǐng)域，以提高工件的耐磨性、導(dǎo)電性或美觀性。核心特點(diǎn)是需抽真空以避免氣體干擾，確保薄膜純凈均勻。
EC400產(chǎn)品參數(shù)
1.真空腔室：400mm(W)*415mm(D)*450mm(H)
2.SUS304不銹鋼方形腔體，前后開門結(jié)構(gòu)，可獨(dú)立使用或與手套箱對(duì)接使用。
3.真空系統(tǒng)：分子泵+機(jī)械泵，氣動(dòng)真空閥門，“一低一高"數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)。
4.真空極限：優(yōu)于5.0*10-5Pa
5.抽速：從大氣抽至7.0*10-4Pa≤30min
6.可鍍膜尺寸：≤140mm*140mm
7.基片臺(tái)系統(tǒng)：水冷(可選配加熱)
8.基片旋轉(zhuǎn)：0-60轉(zhuǎn)/分鐘，可調(diào)可控。
9.蒸發(fā)源：2組有機(jī)蒸發(fā)源自帶控溫0-700℃可調(diào)，2組金屬蒸發(fā)源
10.膜厚不均勻性:≤±5%
11.控制方式：PLC觸摸屏自動(dòng)控制，程序互鎖保護(hù)及異常報(bào)警。
12.占地面積：1300mm*910mm(長*寬)
EC400技術(shù)優(yōu)勢(shì)
*解決溶液法加工鈣鈦礦的痛點(diǎn)（成膜單一，制程單一）
*良品率高，重復(fù)性好。
*操作方便，沉積參數(shù)易于控制。
*制膜純度高、質(zhì)量好，厚度可較準(zhǔn)確控制。
*成膜速率快、效率高，采用掩模版可以獲得清晰的圖形。
*薄膜生長機(jī)理比較簡單。
MS450產(chǎn)品參數(shù)
1.真空腔室：450mm(W)*450mm(D)*380mm(H)
2.SUS304不銹鋼方形腔體，前后開門結(jié)構(gòu)，可獨(dú)立使用或與手套箱對(duì)接使用。
3.真空系統(tǒng)：分子泵+機(jī)械泵，氣動(dòng)真空閥門，“兩低一高"數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)。
4.真空極限：優(yōu)于5.0*10-5Pa
5.抽速：從大氣抽至7.0*10-4Pa≤30min
6.可鍍膜尺寸：≤125mm*125mm
7.基片臺(tái)系統(tǒng)：可升降帶加熱600℃(可選配水冷)
8.基片旋轉(zhuǎn)：0-60轉(zhuǎn)/分鐘，可調(diào)可控。
9.濺射靶槍：3只3英寸磁控靶槍(DC/RF兼容)
10.膜厚不均勻性:≤±5%
11.控制方式：PLC觸摸屏自動(dòng)控制，程序互鎖保護(hù)及異常報(bào)警。
12.占地面積：1500mm*1400mm(長*寬)
真空鍍膜機(jī)是現(xiàn)代工業(yè)中的“表面魔法師"，通過納米級(jí)的薄膜改變材料特性。從手機(jī)屏幕到航天器部件，幾乎無處不在。隨著技術(shù)進(jìn)步，鍍膜工藝將繼續(xù)推動(dòng)新材料和制造業(yè)的發(fā)展。
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