奧林巴斯顯微鏡：材料分析的納米之眼

產(chǎn)品定位

OLS5100是奧林巴斯推出的激光共聚焦顯微鏡，專注于材料表面形貌分析與亞微米級(jí)三維測(cè)量。其核心創(chuàng)新在于將405nm短波長(zhǎng)激光與MEMS掃描振鏡技術(shù)結(jié)合，實(shí)現(xiàn)0.12μm橫向分辨率與0.5nm高度測(cè)量精度，適用于半導(dǎo)體、新能源、生物材料等領(lǐng)域的表面粗糙度檢測(cè)。

技術(shù)突破與材料應(yīng)用

1. 光學(xué)系統(tǒng)
   采用雙光學(xué)路徑設(shè)計(jì)：

• 激光共聚焦通道：通過(guò)針孔濾波消除離焦光，在檢測(cè)鋰電池隔膜表面孔隙時(shí)，可清晰區(qū)分0.5μm的微孔與1μm的缺陷。

• 彩色成像通道：配備CMOS傳感器，支持同時(shí)獲取樣品形貌與顏色信息，例如在分析3D打印金屬零件的氧化層厚度時(shí)，可同步觀察表面色澤變化。

2. 掃描機(jī)制
   MEMS諧振掃描振鏡實(shí)現(xiàn)X軸高速掃描（100kHz），Galvano振鏡控制Y軸精確定位，掃描軌跡失真率＜0.5%。在檢測(cè)手機(jī)玻璃蓋板表面劃痕時(shí)，單次掃描僅需2秒，較傳統(tǒng)白光干涉儀效率提升5倍。

3. 物鏡配置
   提供10×至100×五檔專用LEXT物鏡，工作距離覆蓋0.35mm至10.4mm。以MPLAPON100XLEXT物鏡為例，其0.95數(shù)值孔徑可捕捉集成電路銅線表面的納米級(jí)顆粒，測(cè)量重復(fù)性達(dá)±0.01μm。

型號(hào)參數(shù)詳解

操作流程

1. 樣品固定
   使用磁性?shī)A具固定金屬樣品，避免振動(dòng)干擾；柔性樣品（如聚合物薄膜）需采用真空吸附臺(tái)。

2. 參數(shù)設(shè)置
   在OLS51-BSW軟件中選擇“臺(tái)階高度測(cè)量"模式，設(shè)置掃描速度為50μm/s，采樣間隔為0.1μm。檢測(cè)太陽(yáng)能電池板表面鍍膜厚度時(shí)，建議采用50×物鏡以平衡分辨率與視場(chǎng)范圍。

3. 數(shù)據(jù)分析
   利用“智能實(shí)驗(yàn)管理助手"自動(dòng)生成測(cè)量報(bào)告，包含Ra（算術(shù)平均粗糙度）、Rz（最大高度）等12項(xiàng)參數(shù)。某光伏企業(yè)通過(guò)該功能發(fā)現(xiàn)鍍膜工藝偏差，使產(chǎn)品良率從82%提升至95%。

行業(yè)應(yīng)用

在航空航天領(lǐng)域，OLS5100被用于檢測(cè)渦輪葉片熱障涂層厚度。通過(guò)100×物鏡測(cè)量0.05mm級(jí)的涂層剝落，結(jié)合3D重建功能定位缺陷位置，為涂層修復(fù)工藝提供數(shù)據(jù)支持。