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目錄:北京儀光科技有限公司>>光學(xué)顯微鏡>>奧林巴斯顯微鏡>> 解鎖微觀奧秘:OLS5100共聚焦顯微鏡

解鎖微觀奧秘:OLS5100共聚焦顯微鏡

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參考價(jià) 1200000
訂貨量 ≥1
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
1200000
≥1
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 品牌 OLYMPUS/奧林巴斯
  • 型號(hào)
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 所在地 北京市
屬性

產(chǎn)地類別:進(jìn)口 應(yīng)用領(lǐng)域:綜合

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更新時(shí)間:2025-10-22 21:23:18瀏覽次數(shù):91評(píng)價(jià)

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解鎖微觀奧秘:OLS5100共聚焦顯微鏡
在材料科學(xué)與納米技術(shù)不斷突破的當(dāng)下,科研人員對(duì)微觀形貌的三維分析需求愈發(fā)迫切。奧林巴斯激光共聚焦顯微鏡OLS5100,憑借出色的成像能力與豐富功能,成為探索微觀世界的得力助手。

解鎖微觀奧秘:OLS5100共聚焦顯微鏡

在材料科學(xué)與納米技術(shù)不斷突破的當(dāng)下,科研人員對(duì)微觀形貌的三維分析需求愈發(fā)迫切。奧林巴斯激光共聚焦顯微鏡OLS5100,憑借出色的成像能力與豐富功能,成為探索微觀世界的得力助手。

產(chǎn)品細(xì)節(jié)與性能

OLS5100采用落地式穩(wěn)定結(jié)構(gòu),機(jī)身尺寸約800mm×600mm×1200mm,重量120kg,底部配備防震腳墊,有效減少外界振動(dòng)對(duì)成像的干擾,確保在復(fù)雜環(huán)境中也能獲得穩(wěn)定清晰的圖像。其核心光源為405nm半導(dǎo)體激光,相較于傳統(tǒng)可見光光源,短波長(zhǎng)特性賦予了顯微鏡更高的橫向分辨率,最小可分辨尺寸達(dá)0.12μm,縱向分辨率達(dá)10nm,能清晰捕捉納米級(jí)表面起伏,如薄膜的島狀結(jié)構(gòu)、金屬表面的納米劃痕等細(xì)微特征。

設(shè)備集成激光共聚焦模塊與光學(xué)成像模塊,支持2D成像與3D掃描模式切換,滿足不同實(shí)驗(yàn)需求。側(cè)面預(yù)留拉曼光譜儀、原子力顯微鏡等擴(kuò)展接口,可實(shí)現(xiàn)多技術(shù)聯(lián)用,拓展了設(shè)備的應(yīng)用范圍。樣品臺(tái)為電動(dòng)平移結(jié)構(gòu),行程150mm×150mm,承重5kg,支持X/Y/Z軸自動(dòng)對(duì)焦與掃描,定位精度達(dá)0.1μm,能夠?qū)崿F(xiàn)樣品的全自動(dòng)三維掃描,大大提高了實(shí)驗(yàn)效率。

用材考究

核心光學(xué)部件選用高透光率石英玻璃,配合多層鍍膜技術(shù),有效減少激光能量損失與雜散光干擾,確保成像質(zhì)量。樣品臺(tái)臺(tái)面采用耐磨陶瓷材質(zhì),表面平整度誤差小于2μm,既抗腐蝕又耐高溫,可配合加熱樣品臺(tái)使用,最高溫度達(dá)500℃,適用于各種惡劣環(huán)境下的樣品觀察。內(nèi)部機(jī)械傳動(dòng)部件采用精密滾珠絲杠與伺服電機(jī),保障長(zhǎng)期使用后的運(yùn)動(dòng)精度,減少部件磨損帶來的掃描偏差。

參數(shù)表與型號(hào)

參數(shù)項(xiàng)具體數(shù)值
激光波長(zhǎng)405nm(半導(dǎo)體激光)
縱向分辨率10nm
橫向分辨率100nm
掃描范圍X/Y軸最大150mm×150mm,Z軸最大10mm
樣品臺(tái)承重5kg
掃描模式2D成像、3D掃描、線掃描
圖像分辨率最高4096×4096像素

OLS5100提供多種型號(hào),如OLS5100-SAF、OLS5100-SMF等,可根據(jù)不同實(shí)驗(yàn)場(chǎng)景和需求進(jìn)行選擇。

用途廣泛

在納米材料研發(fā)中,可觀察納米顆粒的分散狀態(tài)、納米管的排列結(jié)構(gòu);在薄膜科學(xué)研究中,測(cè)量薄膜的厚度均勻性、表面粗糙度,分析沉積工藝對(duì)薄膜性能的影響;在生物材料研究中,觀察細(xì)胞在支架表面的黏附形態(tài)、生物涂層的三維結(jié)構(gòu);在金屬材料研究中,分析金屬疲勞后的納米級(jí)裂紋擴(kuò)展、腐蝕產(chǎn)物的微觀形貌。

使用說明

使用前,將設(shè)備放置在恒溫恒濕的科研實(shí)驗(yàn)室中,安裝在光學(xué)防震平臺(tái)上,遠(yuǎn)離強(qiáng)磁場(chǎng)與強(qiáng)電場(chǎng)。打開設(shè)備電源,預(yù)熱30分鐘,同時(shí)啟動(dòng)激光校準(zhǔn)程序。樣品制備需符合共聚焦測(cè)量要求:導(dǎo)電性樣品需清潔表面氧化層;絕緣樣品無(wú)需特殊處理,但需確保表面干燥;納米級(jí)樣品需固定在專用樣品座上。將樣品放置在電動(dòng)樣品臺(tái)上,關(guān)閉樣品室門,通過觸控屏設(shè)置掃描參數(shù),選擇“3D掃描"模式。啟動(dòng)掃描后,系統(tǒng)自動(dòng)完成對(duì)焦與數(shù)據(jù)采集,實(shí)時(shí)顯示三維形貌重構(gòu)過程。掃描完成后,利用配套軟件進(jìn)行數(shù)據(jù)分析,保存原始數(shù)據(jù)與分析報(bào)告。

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