澤攸臺式掃描電鏡的多模式兼容性解析?

澤攸臺式掃描電鏡的多模式兼容性解析

現(xiàn)代科學(xué)研究越來越依賴跨學(xué)科合作，但不同領(lǐng)域?qū)﹄婄R的需求差異巨大：材料學(xué)家需要高分辨表面形貌，生物學(xué)家關(guān)注低損傷超微結(jié)構(gòu)，化學(xué)家側(cè)重成分分布分析。傳統(tǒng)電鏡因功能單一，常需多臺設(shè)備配合，增加了研究成本與協(xié)作難度。澤攸ZEM15通過“多模式兼容設(shè)計"，成為跨學(xué)科研究的“通用表征平臺"。

• 表面形貌模式（SE二次電子探測）：分辨率2nm，放大倍數(shù)10-300,000×，適用于材料斷口、納米顆粒形貌觀察；

  
  

• 成分襯度模式（BSE背散射電子探測）：對原子序數(shù)敏感，可區(qū)分合金中的Fe、Cu、Al等元素，適用于金屬析出相分析；

  
  

• 低損傷模式（低電壓+低束流）：5kV加速電壓，0.1nA束流，適用于生物切片、高分子薄膜觀察。