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浙江大學(xué)林時勝教授團(tuán)隊(duì):石墨烯/GaAs肖特基接面,拓展光譜范圍的新突破

閱讀:661      發(fā)布時間:2023-12-27
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【重點(diǎn)摘要】

這項(xiàng)研究由浙江大學(xué)林時勝教授團(tuán)隊(duì)等人發(fā)表。

  • 制作了石墨烯/GaAs異質(zhì)結(jié)構(gòu)光檢測器

  • 添加銀納米顆粒以進(jìn)行等離子增強(qiáng)

  • 實(shí)現(xiàn)超高(210 mA/W)、寬頻(325-980 nm)的響應(yīng)度和探測度

  • 從納米粒子等離子體重疊載流子分離區(qū)域進(jìn)行增強(qiáng)

  • 可用于色彩檢測等應(yīng)用的可見光到近紅外的敏感度理想

  • 協(xié)同石墨烯/GaAs/等離子體整合實(shí)現(xiàn)性能

【研究背景】

石墨烯展現(xiàn)出優(yōu)異的寬頻光檢測光電特性,但基于石墨烯的光檢測器的響應(yīng)度和探測度受限。將石墨烯與半導(dǎo)體作為異質(zhì)結(jié)構(gòu)整合可以增強(qiáng)性能,但半導(dǎo)體的能隙限制使先前的展示僅適用于狹窄光譜范圍,不適用于對敏感色彩檢測要求較高的應(yīng)用。GaAs是克服這些限制的理想候選者,其直接的1.42電子伏特能隙和高遷移率使其能夠?qū)崿F(xiàn)從可見光到近紅外的高性能光檢測。此外,石墨烯/GaAs界面上光產(chǎn)生載流子的超快分離為從局部表面等離子共振中獲得顯著增強(qiáng)提供了潛在可能性。本研究實(shí)現(xiàn)了一種等離子增強(qiáng)的石墨烯/GaAs異質(zhì)結(jié)構(gòu)光檢測器,其響應(yīng)度、探測度和325-980 nm范圍內(nèi)的寬頻響應(yīng)度,呈現(xiàn)了現(xiàn)有光檢測器無法匹敵的靈敏度。

【研究結(jié)果】

光響應(yīng)度和探測度

  • 在405nm波長下,銀納米顆粒使光響應(yīng)度提高了38%,達(dá)到210mA/W,探測度提高了202%,達(dá)到2.98×10^13 Jones。

  • 這種探測度超過先前基于石墨烯的光檢測器2至3個數(shù)量級。

  • 提升效果覆蓋了從325nm到980nm的整個測試光譜范圍。

提升的光譜依賴性

  • 在較短波長處表現(xiàn)出更大的增強(qiáng),與銀納米顆粒等離子共振峰相匹配。

  • 顯示提升來自表面等離子共振。

載流子壽命和EQE分析

  • 更快的瞬態(tài)PL衰減(1.65ns對比1.97ns)表明銀納米顆粒將光吸收局部化在GaAs表面附近。

  • 從300至1000nm的增加EQE與等離子增強(qiáng)相符。

  • 以上確認(rèn)了表面等離子體能夠在異質(zhì)界面上更有效地分離載流子。

光學(xué)模擬

  • 模擬顯示銀納米顆粒周圍和延伸至GaAs的近場集中。

  • 與石墨烯/GaAs肖特基接面和GaAs光吸收深度重疊。

  • 解釋了這種異質(zhì)系統(tǒng)中極為寬頻提升的來源。

【研究方法】

  • 作者將CVD生長的石墨烯轉(zhuǎn)移到n型GaAs基板上,制作了石墨烯/GaAs異質(zhì)結(jié)構(gòu)光檢測器。

  • 使用自旋涂布技術(shù)將銀納米顆粒(直徑100nm)涂覆到石墨烯表面,利用表面等離子共振提升器件性能。

  • 在不同照射波長(325-980nm)下,以自供電模式測量了光電流、響應(yīng)度和探測度。

  • 進(jìn)行了瞬態(tài)PL衰減和EQE測量,以研究性能提升機(jī)制。

【結(jié)論】

石墨烯與GaAs的協(xié)同作用通過石墨烯/GaAs接面耗盡區(qū)域、表面等離子近場和GaAs吸收深度的復(fù)雜重疊,帶來了顯著的寬頻增強(qiáng)。這種增強(qiáng)機(jī)制特別適用于石墨烯/直接帶隙半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)構(gòu),例如石墨烯/GaAs。由此產(chǎn)生的增強(qiáng)效應(yīng)提高了響應(yīng)度、探測度和寬廣的光譜范圍,使其成為一款出色的光檢測器,特別適用于需要敏感彩色檢測的應(yīng)用,比如CCD成像。

隨著5G和移動技術(shù)的進(jìn)步推動先進(jìn)光電感應(yīng)器件融入日常生活,挑戰(zhàn)在于感光區(qū)域的縮小。然而,這種趨勢要求這些先進(jìn)光檢測器具有更出色的光感應(yīng)性能,增加了準(zhǔn)確測量量子效率的難度。傳統(tǒng)方法在波長分散引起的焦點(diǎn)位移方面存在困難,使得在微米級活躍區(qū)域內(nèi)精確捕捉全光譜量子效率曲線變得困難。

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