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目錄:光焱科技股份有限公司>>EQE/光子-電子轉(zhuǎn)換測(cè)試>> LSD4雷射掃描缺陷圖譜儀

雷射掃描缺陷圖譜儀
  • 雷射掃描缺陷圖譜儀
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 品牌 Enlitech
  • 型號(hào) LSD4
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 高雄市
屬性

產(chǎn)地類別:進(jìn)口 應(yīng)用領(lǐng)域:能源

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更新時(shí)間:2024-04-02 10:25:25瀏覽次數(shù):1594評(píng)價(jià)

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價(jià)格區(qū)間 面議 測(cè)量模式 咨詢光焱科技專家
激光掃描缺陷成像儀是激光束感應(yīng)電流(LBIC)測(cè)試的升級(jí)版本。它利用波長(zhǎng)能量大于半導(dǎo)體帶隙的激光束照射半導(dǎo)體,產(chǎn)生電子空穴對(duì)。通過(guò)快速掃描樣品表面,獲得揭示內(nèi)部電流變化的圖像分布,從而分析各種缺陷分布。這有助于分析樣品制備的質(zhì)量并有助于工藝改進(jìn)。

特征

掃描光生電流的分布

掃描光電壓分布

掃描開路電壓和短路電流的分布

分析表面污染

分析短路區(qū)域的 分布

識(shí)別和分析微裂紋區(qū)域

分析少數(shù)載子擴(kuò)散長(zhǎng)度的分布(選用功能)

應(yīng)用

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OPV光響應(yīng)電流分布圖

螢?zāi)粩X取畫面-2024-03-24-104324.png       OPV-Photoresponse-Current-Distribution-Map2.png

分辨率為 50 µm 的非均勻性分析

螢?zāi)粩X取畫面-2024-03-24-104655.png

母線/柵極縱橫比檢測(cè)(橫截面分析)

螢?zāi)粩X取畫面-2024-03-24-105119.png

高重復(fù)性(6次重復(fù))

螢?zāi)粩X取畫面-2024-03-24-105357.png

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規(guī)格

項(xiàng)目參數(shù)說(shuō)明。
功能A。利用能量高于半導(dǎo)體帶隙的波長(zhǎng)激光束在半導(dǎo)體中產(chǎn)生電子空穴對(duì),探索耗盡區(qū)對(duì)內(nèi)部電流變化的影響,了解和分析各種缺陷分布,作為工藝改進(jìn)的方向。

b.能夠掃描樣品表面光生電流的分布。

C。能夠掃描樣品表面光電壓的分布。

d.能夠掃描開路電壓和短路電流的分布。

e.能夠分析表面污染。

F。能夠分析短路區(qū)域的分布。

G。能夠識(shí)別和分析微裂紋區(qū)域。

H。能夠分析少數(shù)載流子擴(kuò)散長(zhǎng)度的分布(可選)。
激勵(lì)源
405 ±10nm 激光
520 ±10nm 激光
635 ±10nm 激光
830 ±10nm 激光
掃描區(qū)域≧100mm×100mm
激光光斑尺寸接近TEM00模式點(diǎn)
測(cè)繪分辨率
A。掃描分辨率 ≤ 50 µm
b.掃描分辨率可通過(guò)軟件設(shè)置
測(cè)繪時(shí)間<4分鐘(100mm×100mm,分辨率50um)
方面60厘米*60厘米*100厘米
軟件A。 LBIC 3D 可視化
b. 2D 橫截面分析(電極縱橫比)
c.光電流響應(yīng)分布分析(與長(zhǎng)波長(zhǎng)激光源結(jié)合)
d.?dāng)?shù)據(jù)保存和導(dǎo)出功能






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