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參考價(jià)	面議

超聲霧化噴霧熱解

噴霧熱解制膜機(jī)

其他品牌

產(chǎn)地類別	國(guó)產(chǎn)	價(jià)格區(qū)間	面議
應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),地礦,電子

MSK-USP-04CT超聲噴霧熱解涂膜機(jī),噴膠機(jī)采用步進(jìn)電機(jī)和微處理器來控制容積泵，從而保證注液器精確輸送溶劑，保證超聲噴霧過程的連續(xù)性。通過一個(gè)超聲波霧化器來制備厚度較薄的微納米涂層，并且由一個(gè)步進(jìn)電機(jī)控制噴霧器可在X軸和Y軸方向移動(dòng)，且移動(dòng)速度可在一定范圍內(nèi)進(jìn)行調(diào)節(jié)，以確保噴涂后的基片表面涂層的均勻性。通過一個(gè)加熱平臺(tái)來控制基底溫度，從而加速

詳細(xì)介紹

MSK-USP-04CT超聲噴霧熱解涂膜機(jī),噴膠機(jī)采用步進(jìn)電機(jī)和微處理器來控制容積泵,從而保證注液器精確輸送溶劑,保證超聲噴霧過程的連續(xù)性。通過一個(gè)超聲波霧化器來制備厚度較薄的微納米涂層,并且由一個(gè)步進(jìn)電機(jī)控制噴霧器可在X軸和Y軸方向移動(dòng),且移動(dòng)速度可在一定范圍內(nèi)進(jìn)行調(diào)節(jié),以確保噴涂后的基片表面涂層的均勻性。通過一個(gè)加熱平臺(tái)來控制基底溫度,從而加速薄膜的干燥速度,加熱平臺(tái)的加熱溫度可高達(dá)300℃,在此溫度范圍內(nèi)基本可以滿足絕大多數(shù)實(shí)驗(yàn)的需要。

·噴霧熱解制膜法,是將溶液霧化后噴涂到加熱的基底上,然后在基底上得到想得到的物質(zhì)結(jié)構(gòu)。此種材料制備方法特別適用于沉積氧化物,而且在制備透明電極的應(yīng)用中已有相當(dāng)長(zhǎng)的歷史?，F(xiàn)在這種方法在制備鈣鈦礦型太陽能電池中得廣泛應(yīng)用。

產(chǎn)品名稱	MSK-USP-04CT超聲噴霧熱解涂膜機(jī),噴膠機(jī)
產(chǎn)品型號(hào)	MSK-USP-04CT
產(chǎn)品特點(diǎn)	1.PLC程序控制,觸摸屏操作簡(jiǎn)單。 2.采用同步帶輪連接直線導(dǎo)軌滑道結(jié)構(gòu),高速低噪音。 3.鈑金框架結(jié)構(gòu),外形美觀。 4.可更換不同噴頭,且可調(diào)高度,使霧化面達(dá)到最佳效果。 5.噴頭帶有氣動(dòng)輔助,可使霧化后的溶液顆粒有效控制在區(qū)域內(nèi)沉積。
安裝條件	本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:不需要 2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地 3、氣:設(shè)備噴頭為氣動(dòng)輔助,需配套空氣壓縮機(jī)或者氣瓶(含減壓閥) 4、工作臺(tái):桌面式設(shè)備,占地面積1m2左右 5、通風(fēng)裝置:需要
主要參數(shù)	1、電源:220V 50Hz/60Hz
	2、噴霧器行程:X軸行程:1-300mm;Y軸行程:1-220mm
	3、噴霧器移動(dòng)速度: 自動(dòng)控制界面:X軸方向10mm/s-600mm/s,Y軸方向10mm/s-600mm/s 手動(dòng)控制界面:X軸方向10mm/s-300mm/s,Y軸方向10mm/s-300mm/s
	4、涂層間距:1mm-100mm
	5、Z軸高度max調(diào)節(jié)量:90mm
	6、超聲波霧化器:40KHz 100W 7、噴涂膠體顆粒大小: 10um-20um 8、流量大小: 0.6pl~4ml/min 9、固體含量要求: ≤ 10% 10、粘度大小要求: ≤ 20cP s
	11、加熱器平臺(tái)尺寸:350mm×220mm 加熱樣品臺(tái)功率:2500W 12、加熱溫度可高達(dá):300℃。
	13、注液泵裝載:直徑不超過?30mm的注液器 14、標(biāo)配注液器容積:20 ml 15、注液速度:0.1mm/min-45mm/min, 微調(diào)速度0.01mm/min-8mm/min 16、注射器行程設(shè)置范圍:0.01mm-90mm
	17、產(chǎn)品規(guī)格: ·尺寸:700×620×800 mm, 注射泵250mm×225mm×170mm