在精密制造與前沿科研領域,微觀表面形貌的量化表征是保障產(chǎn)品性能與推動技術創(chuàng)新的關鍵環(huán)節(jié)。臺階儀作為一種高精度表面測量儀器,通過對樣品表面高度差、粗糙度及薄膜厚度等參數(shù)的精確獲取,為半導體、納米材料、光學工程等領域提供了不可或缺的技術支撐。本文將系統(tǒng)闡述臺階儀的工作原理、技術特性,并重點介紹澤攸科技臺階儀的創(chuàng)新成果及其應用場景。
臺階儀是一類基于接觸式探針掃描技術,實現(xiàn)樣品表面微觀形貌二維和三維特征量化分析的精密測量設備。其核心功能在于通過高分辨率傳感系統(tǒng)捕捉表面納米至微米量級的幾何特征,輸出高度差、粗糙度、3D 形貌等定量參數(shù),為材料性能評估、工藝優(yōu)化及器件可靠性分析提供數(shù)據(jù)依據(jù)。
接觸式測量系統(tǒng)采用微米級半徑的金剛石探針作為測量單元,通過壓電驅動裝置實現(xiàn)探針與樣品表面的相對運動。當探針沿掃描路徑接觸表面時,其垂直位移通過電感式傳感器轉化為電信號,經(jīng)模數(shù)轉換與算法處理后生成表面輪廓數(shù)據(jù)。該技術的優(yōu)勢在于納米級垂直分辨率,但需嚴格控制探針壓力(通常為微牛級)以避免樣品損傷,適用于較硬質材料表面的高精度測量。
長期以來,這一領域被國外產(chǎn)品壟斷。澤攸科技作為精密測量儀器領域的創(chuàng)新型企業(yè),其研發(fā)的 JS 系列臺階儀通過多項自主核心技術突破,打破了國外壟斷,實現(xiàn)了測量精度與適用范圍的雙重提升,是半導體國產(chǎn)化進程中重要的一環(huán)。
該系列產(chǎn)品的技術優(yōu)勢集中體現(xiàn)在:
1. 大行程超精密平面掃描技術:采用超光滑平晶導軌與納米光柵反饋系統(tǒng),實現(xiàn) 55mm描范圍內≤ 20nm(每2mm)的平面度誤差,滿足大尺寸樣品的全域均勻性測量需求。
2. 大帶寬大行程納米微動臺:集成壓電驅動與LVDT傳感單元,實現(xiàn)標準行程內 0.05nm 的位移分辨率,10kHz 帶寬確保高速掃描時的動態(tài)響應精度,重復測量偏差控制在 0.5nm 以內。
3. 超微壓力恒定控制系統(tǒng):通過閉環(huán)反饋調節(jié)探針接觸力至 0.5-50mg 范圍,在保證測量穩(wěn)定性的同時,有效避免對軟質材料表面的機械損傷。
4. 直立式雙LVDT測量結構:創(chuàng)新式的直立下針雙LVDT測量系統(tǒng),擯棄了傳統(tǒng)的杠桿式測量方式,無需圓弧補償,所測即所得。
其代表性產(chǎn)品的核心性能指標如下:垂直分辨率≤0.05nm,高度方向重復性≤0.5nm(1μm 標準臺階),最大掃描長度≥200mm(含拼接),支持≤12 英寸晶圓及 50mm 高度樣品的直接測量,全面覆蓋科研與工業(yè)生產(chǎn)的多樣化需求。

臺階儀主要針對具有可量化表面特征的固體樣品,典型應用對象包括:
1. 表面臺階與高度差測量
2. 表面粗糙度表征
3. 薄膜與界面分析
4. 三維形貌與輪廓分析
澤攸科技臺階儀憑借其自主創(chuàng)新的技術架構與高性能指標,在精密制造與科研領域展現(xiàn)出顯著優(yōu)勢:相較于進口同類產(chǎn)品,澤攸科技臺階儀在保持同等測量精度的前提下,具備更高的性價比與本地化技術支持能力,有效降低了國內企業(yè)與科研機構的設備采購成本,加速了精密測量技術的國產(chǎn)化替代進程。
隨著微納制造技術的不斷發(fā)展,臺階儀作為微觀形貌表征的核心工具,其應用場景將持續(xù)拓展。澤攸科技將繼續(xù)深耕精密測量技術研發(fā),通過硬件創(chuàng)新與算法優(yōu)化,進一步提升儀器的測量效率與環(huán)境適應性,為我國高端制造與前沿科研領域提供更具競爭力的技術解決方案。
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