您好, 歡迎來(lái)到化工儀器網(wǎng)

| 注冊(cè)| 產(chǎn)品展廳| 收藏該商鋪

18396591470

technology

首頁(yè)   >>   技術(shù)文章   >>   粉末原子層沉積具有怎樣的優(yōu)點(diǎn)?

廈門(mén)韞茂科技有限公司

立即詢(xún)價(jià)

您提交后,專(zhuān)屬客服將第一時(shí)間為您服務(wù)

粉末原子層沉積具有怎樣的優(yōu)點(diǎn)?

閱讀:336      發(fā)布時(shí)間:2023-8-4
分享:
   粉末原子層沉積是一種薄膜制備技術(shù)。與傳統(tǒng)的原子層沉積(ALD)相比,利用粉末作為反應(yīng)物源,實(shí)現(xiàn)了更高的生長(zhǎng)速率和更大尺寸的薄膜覆蓋面積。在過(guò)去的幾年里,已經(jīng)成為材料科學(xué)和工程領(lǐng)域的研究熱點(diǎn),并在微電子、能源存儲(chǔ)、光電子等領(lǐng)域展示出巨大的潛力。
 
  粉末原子層沉積通過(guò)交替地引入氣體與粉末進(jìn)行表面反應(yīng),將它的概念擴(kuò)展到固體顆粒上。先在基材表面形成一個(gè)導(dǎo)電或非導(dǎo)電的種子層,然后將粉末在該種子層上均勻地分布。接下來(lái),通過(guò)向反應(yīng)室中引入適當(dāng)?shù)臍怏w,與粉末表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),使其在每個(gè)原子層上生長(zhǎng)一層薄膜。這個(gè)過(guò)程可以重復(fù)多次,直到達(dá)到所需的薄膜厚度。
 
  具有許多優(yōu)點(diǎn)。
  1、它具有較高的生長(zhǎng)速率,通常比傳統(tǒng)ALD快一個(gè)數(shù)量級(jí)。這是因?yàn)榉勰┳鳛榉磻?yīng)物源可以提供更多的原子或分子,從而加快了薄膜的沉積速度。
  此外,還具有較大的薄膜覆蓋面積,因?yàn)榉勰┛梢跃鶆虻胤植荚诨谋砻嫔?,使得整個(gè)表面都能夠進(jìn)行原子層沉積。
 
  2、另一個(gè)重要的優(yōu)勢(shì)是對(duì)于復(fù)雜形狀的基材具有較好的適應(yīng)性。由于粉末可以填充到不規(guī)則表面的細(xì)微縫隙中,可以在曲率半徑很小的區(qū)域?qū)崿F(xiàn)原子層沉積,從而保持了薄膜的均勻性和一致性。這使得它在納米器件、MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))和生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域中具有廣泛的應(yīng)用前景。
 
  粉末原子層沉積是一種具有高生長(zhǎng)速率、大薄膜覆蓋面積和良好適應(yīng)性的薄膜制備技術(shù)。

會(huì)員登錄

請(qǐng)輸入賬號(hào)

請(qǐng)輸入密碼

=

請(qǐng)輸驗(yàn)證碼

收藏該商鋪

標(biāo)簽:
保存成功

(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)

常用:

提示

您的留言已提交成功!我們將在第一時(shí)間回復(fù)您~
在線(xiàn)留言