荷蘭4PICO 大幅面無掩模激光直寫光刻機PicoMaster XF 500-H 返回列表頁

PicoMaster XF 500-H 是一款具有超高精度的多功能紫外激光直寫設備，它具有每毫米超過1200條線的輸出能力，特別適合用戶在光敏層上自由地創(chuàng)造微結構。的全息設計軟件，提供了許多預先安裝的全息效果及其光柵、結構的運算方法，它們可以很輕松地將把這些效果組合起來，十分利于用戶的產品開發(fā)。同時軟件也允許用戶添加自己的算法和結構，來定制數據庫、完善產品設計。

系統(tǒng)優(yōu)點

v使用GLV （Grating Light Valve）技術，可實現高達1000個單位像素的激光束高速并行直寫；

v構建獨立設計庫，可完成自由度的3D光刻，并支持標準圖像源、個性化的3D設計源；

v支持 0.5米 x 0.5米的激光直寫面積，低規(guī)格條件下，直寫只需55個小時；

v選擇關閉灰度寫入功能，直寫相同曝光面積，其直寫速度將提升2倍；

v可定制更大幅面的無掩模激光直寫系統(tǒng)解決方案.