深圳市科時(shí)達(dá)電子科技有限公司
中級會員 | 第2年

13510161192

當(dāng)前位置:深圳市科時(shí)達(dá)電子科技有限公司>> 美國蝕刻和剝離系統(tǒng) CESx124

美國蝕刻和剝離系統(tǒng) CESx124

參  考  價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所  在  地深圳市

更新時(shí)間:2022-05-10 12:17:44瀏覽次數(shù):400次

聯(lián)系我時(shí),請告知來自 化工儀器網(wǎng)
同類優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品更多>
這款蝕刻和清潔系統(tǒng)專為滿足當(dāng)今晶圓、光掩模和基板的前沿應(yīng)用的特殊工藝需求而設(shè)計(jì)。

這款蝕刻和清潔系統(tǒng)專為滿足當(dāng)今晶圓、光掩模和基板的前沿應(yīng)用的特殊工藝需求而設(shè)計(jì)。這高效蝕刻和清潔系統(tǒng)CESx124、126、128133理想選擇,可滿足不同大小尺寸的晶片、光掩模和襯底,不論是從小直徑還是非常大直徑CESx可以配置多種工藝分配選項(xiàng),Megasonic噴嘴對DI H20或化學(xué)藥品的處理分配選項(xiàng);用于化學(xué)制劑的低壓噴嘴;化學(xué)加熱器和DI-H20;用于表面攪拌以加快反應(yīng)的刷子,和/DI H20等。


特點(diǎn):

? 專為重要控制和安全而設(shè)計(jì)的系統(tǒng)。

? 多達(dá)9x9英寸/ 300mm直徑的基板兼容性。

? 主軸組件具有直流無刷伺服電機(jī),可實(shí)現(xiàn)精確的速度控制和分度。

? 特氟龍涂層不銹鋼臂可調(diào)節(jié)臂速度和行進(jìn)位置。

? 徑向排氣腔,用于層流,蓋子頂部有N2進(jìn)料。

? DI-H20加熱器,用于清潔和干燥輔助。

? 過程中包含化學(xué)相容性材料PVDF或可選的PTFE。

? 獨(dú)立式聚丙烯柜。

? 微處理器控制功能可以在存儲器中保留三十(30)步的配方,每個(gè)配方有三十(30)步。配方和步驟的數(shù)量均可根據(jù)要求擴(kuò)展。

? 內(nèi)置安全聯(lián)鎖和雙重控制。

? 用聯(lián)鎖裝置沖洗整個(gè)工藝區(qū)域和基材的pH值,以禁止進(jìn)入工藝區(qū)域并控制排放和主軸轉(zhuǎn)速直到安全。

? 按鈕蓋打開/關(guān)閉。

? 觸摸屏圖形用戶界面(GUI),易于編程和安全鎖定,并帶有屏幕錯誤報(bào)告。

? 用于化學(xué)和房屋排水的排水分流閥。

? 設(shè)計(jì)符合SEMI S2 / S8準(zhǔn)則。


技術(shù)參數(shù):

? 產(chǎn)品:蝕刻和剝離系統(tǒng)

? 型號:CESx124

? 可用機(jī)械臂:4

? 基板尺寸:13英寸直徑

? 主軸速度:2500

? 配方:高達(dá)30

? 分配管路:12


主營產(chǎn)品:

Laurell勻膠機(jī)

Harrick等離子清洗機(jī)

Thetametrisis膜厚儀

Microxact探針臺

ALD原子層沉積系統(tǒng)

TRION反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

Uvitron紫外固化箱

NXQ紫外曝光光刻機(jī)

Novascan紫外臭氧清洗機(jī)

Nilt納米壓印機(jī)

Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板

Annealsys高溫退火爐

Kinematic程序剪切儀

Laurell EDC系統(tǒng),濕站系統(tǒng)

Wabash/Carver自動壓片機(jī)


會員登錄

×

請輸入賬號

請輸入密碼

=

請輸驗(yàn)證碼

收藏該商鋪

X
該信息已收藏!
標(biāo)簽:
保存成功

(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)

常用:

提示

X
您的留言已提交成功!我們將在第一時(shí)間回復(fù)您~
撥打電話
在線留言