M-HP 200 Hotplate 加熱板 返回列表頁

M-HP 200熱板用于烘烤和回火加熱晶圓片或基板。該熱板適用于直徑為8英寸的晶圓片或6英寸 x6英寸的襯底。內(nèi)置模塊可輕松用于濕式工作臺。工藝參數(shù)（溫度，加熱時間）可以隨時更改。 熱板溫度可在20°C和250C之間調(diào)節(jié)?？稍?span style="font-family: Times New Roman;">1到999秒之間設置處理時間。

產(chǎn)品參數(shù)：

? 型號：M-HP 200 Hotplate熱板  

? 處理尺寸：直徑8英寸晶圓片或6 英寸x6英寸基板

? 溫度范圍：20°C至250°C可調(diào)

? 功率：600瓦

? 加熱時間：從1到9999秒

? 熱板表面安全蓋材質(zhì)：不銹鋼

? 不帶蓋的熱板尺寸：約350mm x 350mm x 200mm

? 控制器的尺寸：約135mm x 145mm x 95mm

? 臺式柜的尺寸：約 460mm x 360mm x 325mm

? 重量：約200磅

主營產(chǎn)品：

Laurell勻膠機    

Harrick等離子清洗機

Thetametrisis膜厚儀  

Microxact探針臺

ALD原子層沉積系統(tǒng)

TRION反應離子刻蝕機

Uvitron紫外固化箱

NXQ紫外曝光光刻機      

Novascan紫外臭氧清洗機

Nilt納米壓印機

Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板

Annealsys高溫退火爐

Kinematic程序剪切儀

Laurell EDC系統(tǒng)，濕站系統(tǒng)    

Wabash/Carver自動壓片機