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PlasmaStar 200/200 RIE 反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng) 反應(yīng)離子蝕刻機(jī) 產(chǎn)品關(guān)鍵詞:反應(yīng)離子蝕刻機(jī);rie蝕刻機(jī)
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更新時(shí)間:2024-11-04 20:42:29

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PlasmaStar200/200RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)等離子刻蝕機(jī)一、反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar100儀器介紹PlasmaSTAR®系列等離子處理系統(tǒng)適合處理所有的材料,擁有多種腔室和電極配置,可滿(mǎn)足不同的等離子工藝和基片尺寸

PlasmaStar 200/200 RIE 反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng) 等離子刻蝕機(jī)



一、反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar 100儀器介紹

PlasmaSTAR®系列等離子處理系統(tǒng)適合處理所有的材料,擁有多種腔室和電極配置,可滿(mǎn)足不同的等離子工藝和基片尺寸。占地面積小,用于各種等離子工藝的模塊化腔室和電極配置。此外,觸摸屏計(jì)算機(jī)控制,多級(jí)程序控制和組件控制,操作簡(jiǎn)單。PlasmaSTAR®模塊化腔室和電極組件是該系統(tǒng)的功能。 腔室材料是硬質(zhì)陽(yáng)極氧化鋁, 有幾種不同的電極設(shè)計(jì),包括用于反應(yīng)離子刻蝕(RIE)和平面處理的水冷平板電極,用于表面清洗或處理的交替多層托盤(pán)電極,用于最小化離子損傷的下游電極,和用于普通的圓柱形籠式電極。
1、腔體尺寸:直徑≥200mm,深度≥280mm;

2、腔體材質(zhì):硬質(zhì)陽(yáng)極氧化鋁矩形腔體;

3、處理腔背面材質(zhì):鋁;

4、處理腔門(mén):要求全自動(dòng)腔門(mén);

5、兩路工藝氣體,≥2路質(zhì)量流量控制器控制氣體流量,氣體輸入腔室?guī)蛄髟O(shè)計(jì);

6、射頻功率:0~600W連續(xù)可調(diào),13.56MHz,自動(dòng)匹配,自然風(fēng)冷;

7、配備RIE平面水冷平板電極;

8、7英寸及以上顯示器、觸摸屏、圖形用戶(hù)界面;


9、程序控制:觸摸屏電腦控制,無(wú)線(xiàn)程序存儲(chǔ);

10、Windows操作系統(tǒng),兼容Windows office軟件,USB接口,可進(jìn)行外部電腦遠(yuǎn)程控制的功能;

11、狀態(tài)和出錯(cuò)信息提示,過(guò)程數(shù)據(jù)和出錯(cuò)信息存儲(chǔ),可選擇自動(dòng)和手動(dòng)操作模式,過(guò)程數(shù)據(jù)可以導(dǎo)出,工藝參數(shù)以圖形方式呈現(xiàn),可實(shí)時(shí)監(jiān)控,自動(dòng)實(shí)現(xiàn)泄露檢測(cè);

12、配套緊急急停按鈕(EMO),配套電路斷路器,機(jī)械聯(lián)鎖(門(mén)傳感器)和真空聯(lián)鎖(壓力開(kāi)關(guān)),通過(guò)軟件可進(jìn)行遠(yuǎn)程的真空聯(lián)鎖;

13、典型的光刻膠刻蝕速率:80nm/min;

14、典型工藝均勻性:≥±10%;

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