EDI電鍍超純水設(shè)備 返回列表頁

EDI電鍍超純水設(shè)備連續(xù)電除鹽（EDI，Electro-deionization或CDI，Continuous Electrode ionization），是一種將離子交換技術(shù)，離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)相結(jié)合的純水制造技術(shù)。屬高科技綠色環(huán)保技術(shù)。這一新技術(shù)可以代替?zhèn)鹘y(tǒng)的離子交換，生產(chǎn)出電阻率高達(dá)18 MΩ·cm的超純水 。EDI超純水設(shè)備具有連續(xù)出水、無需酸堿再生、出水水質(zhì)穩(wěn)定，模塊能耗少，節(jié)約運(yùn)行費(fèi)用，容易實(shí)現(xiàn)在整體式的模塊排列，重量輕，結(jié)構(gòu)緊湊，和無人值守等優(yōu)點(diǎn)，已在制備純水的系統(tǒng)中逐步代替混床作為精處理設(shè)備使用。這種先進(jìn)技術(shù)的環(huán)保特性好，操作使用簡便，愈來愈多地被人們所認(rèn)可，也愈來愈多地在各大行業(yè)中得到推廣。

水質(zhì)：電阻率>15MΩ.cm
用途:半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件產(chǎn)品、單晶硅、多晶硅清洗需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。
根據(jù)行業(yè)的不同要求，制取純水、超純水工藝大致分為以下四種：

1、采用離子交換方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾→陰樹脂過濾→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點(diǎn)
2、采用兩級反滲透方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透 →PH調(diào)節(jié)→中間水箱→二級反滲透→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點(diǎn)
3、采用EDI方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機(jī)→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點(diǎn)

4、原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→PH值調(diào)節(jié)→高效混合器→精密過濾器→高效反滲透→中間水箱→EDI水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點(diǎn)

超純水處理系統(tǒng)、超純水處理設(shè)備的工藝特點(diǎn)： EDI超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,電鍍超純水設(shè)備

在設(shè)備設(shè)計上，采用成熟、可靠、先進(jìn)、自動化程度高的兩級反滲透＋EDI水處理工藝，確保處理后的超純水水質(zhì)符合要求，水利用率高，運(yùn)行可靠，經(jīng)濟(jì)合理。關(guān)鍵設(shè)備及材料均采用國際主流先進(jìn)可靠產(chǎn)品，采用PLC＋觸摸屏控制，全套系統(tǒng)自動化程度高，系統(tǒng)穩(wěn)定性高。大大節(jié)省人力成本和維護(hù)成本。使設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價比和設(shè)備可靠性。

EDI電鍍超純水設(shè)備的特點(diǎn)：
超純水處理系統(tǒng)、超純水處理設(shè)備應(yīng)用在反滲透系統(tǒng)之后，取代傳統(tǒng)的混床離子交換技術(shù)生產(chǎn)穩(wěn)定的超純水。EDI技術(shù)與混合離子交換技術(shù)相比有如下優(yōu)點(diǎn)：
1、無需酸堿再生, 不會因再生而停機(jī)， 水質(zhì)穩(wěn)定，無污水排放： 在混床中樹脂需要用化學(xué)藥品酸堿再生， 且需要安全儲存酸堿的車間， 再生時有大量有害廢水和廢棄物需處理，增加了環(huán)保和安全方面的工作困難。 而EDI則消除了這些有害物質(zhì)的處理和繁重的工作。保護(hù)了環(huán)境。
2、運(yùn)行費(fèi)用低， 連續(xù)、簡單的操作， 容易實(shí)現(xiàn)全自動控制：在混床中由于每次再生和水質(zhì)量的變化，使操作過程變得復(fù)雜，而EDI的產(chǎn)水過程是穩(wěn)定的連續(xù)的，產(chǎn)水水質(zhì)是恒定的，沒有復(fù)雜的操作程序，操作大大簡便化。
3、廠房面積小，降低了安裝的要求：EDI系統(tǒng)與相當(dāng)處理水量的混床相比，有較不的體積，它采用積木式結(jié)構(gòu)，可依據(jù)場地的高度和窨靈活地構(gòu)造。模塊化的設(shè)計，使EDI在生產(chǎn)工作時能方便維護(hù)。

EDI超純水處理設(shè)備系統(tǒng)原理：  EDI超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,電鍍超純水設(shè)備

EDI超純水處理設(shè)備設(shè)備系統(tǒng)是利用混和離子交換樹脂吸附給水中的陰陽離子，被吸附的離子在直流電壓的作用下，分別透過陰陽離子交換膜而被除去的過程。電滲析器的一對電極之間,通常由陰膜,陽膜和隔板多組交替排列，構(gòu)成濃室和淡室(即陽離子可透過陽膜,陰離子可透過陰膜)。淡室水中陽離子向負(fù)極遷移透過陽膜，被濃室中的陰膜截留；水中陰離子向正極方向遷移陰膜，被濃室中的陽膜截留，這樣通過淡室的水中離子數(shù)逐漸減少，成為淡水，而濃室的水中，由于濃室的陰陽離子不斷涌進(jìn)，電介質(zhì)離子濃度不斷升高，而成為濃水，從而達(dá)到淡化，提純，濃縮或精制的目的。這一過程離子交換樹脂是電連續(xù)再生的，因此不需要使用酸和堿對之再生。這一新技術(shù)可以替代傳統(tǒng)的離子交換裝置，生產(chǎn)出高達(dá)18M-CM的超純水 。

超純水設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域： 　　

電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗；　　

電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水； 　　

黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水；　　

生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液； 　　

晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片；　　

集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片； 　

半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水； 　　

半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗；

高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)；　　　

汽車、家電表面拋光處理。