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富士工業(yè) 高精度單成分濃度計(jì)
本產(chǎn)品利用超聲波的特性，高精度地測量溶液的濃度
測量「溶液的溫度」+「超聲波的速度」→通過CPU演算處理→濃度顯示

富士工業(yè) 高精度單成分濃度計(jì)

超聲波液體濃度計(jì)

　　FUD-1Model-130系列CMP用

　　測量原理

　　超聲波在液體中非常易于傳播。

　　超聲波在溶液中傳播的速度受溶液的濃度和溫度影響。

　　「濃度變化」→「密度變化」→「音速變化」

　　本產(chǎn)品利用超聲波的特性，高精度的測量溶液的濃度。

　　測量「溶液的溫度」+「超聲波的速度」→通過CPU演算處理→濃度顯示

　　單組分密度計(jì)的特點(diǎn)

　　Model-130是一個概念模型，強(qiáng)調(diào)了所測量濃度的穩(wěn)定性，

　　在需要高精度和高穩(wěn)定性密度計(jì)側(cè)的半導(dǎo)體制造過程中非常有效。

　　可以高精度連續(xù)測量

　　免維護(hù)，無需定期調(diào)整/校準(zhǔn)

　　易于安裝，因?yàn)樵诎惭b過程中無需進(jìn)行任何調(diào)整

　　通過實(shí)時輸出輕松反饋到過程

　　Model-130是重視測量濃度穩(wěn)定性的概念模型

　　半導(dǎo)體制造工序等的高精度·高穩(wěn)定濃度計(jì)方面被認(rèn)為是必要的。

　　高精度連續(xù)計(jì)測可能

　　無需定期調(diào)整、校對，無需維護(hù)

　　設(shè)置時的各種調(diào)整等不需要也非常容易設(shè)置

　　實(shí)時輸出的工程的反饋也容易

　　用途

　　在CMP工序中的CMP襯墊或氧化劑濃度管理等

　　稀釋工程的各種藥液濃度管理等（H2O2·TMAH·HNO3·H2SO4·HCI等在清洗過程中的清洗液濃度管理等（HF·NH4OH·KOH·PA等；蝕刻工序中的蝕刻液濃度管理等（HF·H2S04等。

富士工業(yè) 高精度單成分濃度計(jì)

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