無錫冠亞—品牌—密閉自動(dòng)化高低溫tcu 返回列表頁

無錫冠亞—品牌—密閉自動(dòng)化高低溫tcu

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TCU主要用于反應(yīng)釜集中控溫的，般是配套使用，在使用TCU反應(yīng)釜的時(shí)候，定要注意清洗，要不然會影響TCU反應(yīng)釜的高效運(yùn)行。

　　TCU反應(yīng)釜機(jī)械清洗：

　　TCU反應(yīng)釜機(jī)械清洗的時(shí)候，采用高壓清洗裝置，使用高壓水流通過噴頭沖刷，將反應(yīng)釜內(nèi)壁及攪拌器表面上的堅(jiān)硬垢物擊碎，*剝離并清除掉。

　　TCU反應(yīng)釜機(jī)械清洗高壓清洗的原理為將水壓縮高壓，然后通過伸入釜內(nèi)的清釜機(jī)器人上安裝的噴嘴釋放。壓力能轉(zhuǎn)變?yōu)樗鞯膭?dòng)能，通過這個(gè)能量對壁面污垢進(jìn)行沖擊實(shí)現(xiàn)清洗、清除的效果。

　　TCU反應(yīng)釜機(jī)械清洗是單純的物理清洗，所使用的介質(zhì)為水，成本非常低，但是效率非常高，高壓水清洗所用時(shí)間短，與手工清洗相比較，能節(jié)省大量人力、物力、財(cái)力，還不會對TCU反應(yīng)釜造成損傷。

　　與原來手工清除相比，年下來能夠節(jié)省大塊的停釜清洗時(shí)間，若將這部分時(shí)間用于生產(chǎn)，將能額外產(chǎn)生可觀的經(jīng)濟(jì)效益。同時(shí)，高壓水不會對反應(yīng)釜內(nèi)壁造成任何損傷。目前在化工行業(yè)，高壓水射流清洗已經(jīng)逐步成為清洗方法的主流。

　　TCU反應(yīng)釜化學(xué)清洗：

　　TCU反應(yīng)釜在進(jìn)行化學(xué)清洗的時(shí)候，需要知道反應(yīng)釜設(shè)備內(nèi)的垢樣成分，好是取樣分析。確定污垢成分后先做試驗(yàn)，選用清洗劑同時(shí)通過試驗(yàn)確定對設(shè)備金屬不會造成腐蝕。然后通過現(xiàn)場架設(shè)臨時(shí)循環(huán)裝置將清洗液在設(shè)備內(nèi)循環(huán)流動(dòng)，洗去污垢。

　　在進(jìn)行TCU反應(yīng)釜清洗的時(shí)候，先用適量的水沖洗攪拌槳及釜內(nèi)壁，放盡，將溶劑通過加壓裝置流沖刷反應(yīng)釜。如未達(dá)到清洗效果，向反應(yīng)釜中加入適量的溶劑升溫?cái)嚢杌亓鬟_(dá)到清洗要求，然后將溶劑放出， 后用定量的溶劑沖洗反應(yīng)釜內(nèi)壁，放出。

　　TCU反應(yīng)釜人工進(jìn)釜手工清除：

　　TCU反應(yīng)釜人工進(jìn)釜手工清除成本是很低的，但是進(jìn)釜之前需要數(shù)小時(shí)的通風(fēng)換氣，清除過程中還須隨時(shí)監(jiān)視釜內(nèi)氧氣濃度，有缺氧的危險(xiǎn)；同時(shí)人工刮鏟除了不能*清理之外，還會造成反應(yīng)釜內(nèi)壁的滑傷，這些滑痕客觀上造成了殘留物的進(jìn)步附著。人進(jìn)釜清理也會造成產(chǎn)品衛(wèi)生上的問題。般來說，清理臺釜所需時(shí)間約為半天天。

　　TCU反應(yīng)釜清洗的三種方法各有利弊，機(jī)械清洗不會對設(shè)備產(chǎn)生腐蝕，對硬垢可以有效清洗，但是用時(shí)長、勞動(dòng)強(qiáng)度大；化學(xué)清洗用工少，清洗時(shí)間短，清洗*，但是可能會造成設(shè)備被腐蝕；人工進(jìn)釜手工清除成本低，但是危險(xiǎn)性較大，不能*清理干凈。因此化學(xué)清洗應(yīng)用在污垢較軟、薄的工況，機(jī)械清洗應(yīng)用在污垢硬、厚的工況。

　　這三種TCU反應(yīng)釜清洗的知識希望能幫助到大家更加高效安全的使用反應(yīng)釜。

-80℃～250℃

技術(shù)參數(shù)：