無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司的半導(dǎo)體控溫解決方案

主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體專?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測(cè)試機(jī)和半導(dǎo)體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備，

?泛應(yīng)?于半導(dǎo)體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。

【 冠亞制冷 】半導(dǎo)體行業(yè)主營(yíng)控溫產(chǎn)品：

半導(dǎo)體專溫控設(shè)備

射流式?低溫沖擊測(cè)試機(jī)

半導(dǎo)體專用溫控設(shè)備chiller

Chiller氣體降溫控溫系統(tǒng)

Chiller直冷型

循環(huán)風(fēng)控溫裝置

半導(dǎo)體?低溫測(cè)試設(shè)備

電?設(shè)備?溫低溫恒溫測(cè)試?yán)錈嵩?/span>

射流式高低溫沖擊測(cè)試機(jī)

快速溫變控溫卡盤

數(shù)據(jù)中心液冷解決方案

-30-90℃變頻雙路Chiller 芯片高低溫測(cè)試

-30-90℃變頻雙路Chiller 芯片高低溫測(cè)試

射流式高低溫沖擊測(cè)試機(jī)給芯片、模塊、集成電路板、電子元器件等提供精確且快速的環(huán)境溫度。

是對(duì)產(chǎn)品電性能測(cè)試、失效分析、可靠性評(píng)估的儀器設(shè)備。

溫度控制范圍：-120℃ 至+300℃，升降溫速率??？焖?，150℃?-55℃＜10秒，zui??流量：30m3/h；

實(shí)時(shí)監(jiān)控被測(cè)IC真實(shí)溫度,實(shí)現(xiàn)閉環(huán)反饋，實(shí)時(shí)調(diào)整?體溫度升降溫時(shí)間可控，程序化操作、?動(dòng)操作、遠(yuǎn)程控制

測(cè)試條件：環(huán)境溫度20℃，30m3/h，5Bar,壓縮空?或氮?可定制100m3/h?體流量快速?zèng)_擊測(cè)試機(jī)，?于滿?較?測(cè)試功率需求

　　射流式制冷加熱控溫系統(tǒng)是一種能夠提供準(zhǔn)確的溫度控制，幫助生產(chǎn)過程更加穩(wěn)定和可靠。然而，在選購射流式制冷加熱控溫系統(tǒng)時(shí)，需要注意一些關(guān)鍵事項(xiàng)，以確保選購到適合的設(shè)備，滿足生產(chǎn)需求。

　　1、射流式制冷加熱控溫系統(tǒng)原理及型號(hào)選擇

　　射流式制冷加熱控溫系統(tǒng)其原理和型號(hào)選擇直接影響到設(shè)備的性能和使用效果。在選購時(shí)，要了解射流式制冷加熱控溫系統(tǒng)的原理和各種型號(hào)的特點(diǎn)，以便根據(jù)實(shí)際需求進(jìn)行選擇。例如，根據(jù)制冷方式的不同，射流式制冷加熱控溫系統(tǒng)可分為水冷式和風(fēng)冷式兩種，應(yīng)根據(jù)生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)的環(huán)境條件選擇合適的型號(hào)。

　　2、射流式制冷加熱控溫系統(tǒng)冷卻方式及加熱方式選擇

　　射流式制冷加熱控溫系統(tǒng)在控制反應(yīng)釜溫度時(shí)，需要選擇合適的冷卻方式和加熱方式。選購時(shí)，應(yīng)根據(jù)實(shí)際生產(chǎn)過程中的溫度控制需求，選擇適合的冷卻和加熱方式。例如，冷卻方式可以選擇水冷或風(fēng)冷，加熱方式可以選擇電加熱或蒸汽加熱等。