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當(dāng)前位置:無(wú)錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司>>元器件高低溫測(cè)試機(jī)>>Chiller>> LTS-202側(cè)墻刻蝕單通道chiller 涂布和顯影工序制冷
產(chǎn)品型號(hào)LTS-202
品 牌冠亞制冷
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地無(wú)錫市
更新時(shí)間:2024-01-11 10:27:39瀏覽次數(shù):420次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 化工儀器網(wǎng)Chillers半導(dǎo)體控溫裝置 模塊循環(huán)制冷機(jī)
反應(yīng)裝置低溫循環(huán)設(shè)備 數(shù)據(jù)中心chiller
模塊循環(huán)制冷機(jī) 半導(dǎo)體低溫冰水機(jī)Chiller
水循環(huán)制冷機(jī) 半導(dǎo)體液冷器Chiller
產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 10萬(wàn)-50萬(wàn) |
---|---|---|---|
冷卻方式 | 水冷式 | 儀器種類(lèi) | 一體式 |
應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),電子,制藥,汽車(chē) |
主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體專(zhuān)?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測(cè)試機(jī)和半導(dǎo)體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備,
?泛應(yīng)?于半導(dǎo)體、LED、LCD、太陽(yáng)能光伏等領(lǐng)域。
半導(dǎo)體專(zhuān)溫控設(shè)備
射流式?低溫沖擊測(cè)試機(jī)
半導(dǎo)體專(zhuān)用溫控設(shè)備chiller
Chiller氣體降溫控溫系統(tǒng)
Chiller直冷型
循環(huán)風(fēng)控溫裝置
半導(dǎo)體?低溫測(cè)試設(shè)備
電?設(shè)備?溫低溫恒溫測(cè)試?yán)錈嵩?/span>
射流式高低溫沖擊測(cè)試機(jī)
快速溫變控溫卡盤(pán)
數(shù)據(jù)中心液冷解決方案
型號(hào) | FLT-002 | FLT-003 | FLT-004 | FLT-006 | FLT-008 | FLT-010 | FLT-015 |
FLT-002W | FLT-003W | FLT-004W | FLT-006W | FLT-008W | FLT-010W | FLT-015W | |
溫度范圍 | 5℃~40℃ | ||||||
控溫精度 | ±0.1℃ | ||||||
流量控制 | 10~25L/min 5bar max | 15~45L/min 6bar max | 25~75L/min 6bar max | ||||
制冷量at10℃ | 6kw | 8kw | 10kw | 15 kw | 20kw | 25kw | 40kw |
內(nèi)循環(huán)液容積 | 4L | 5L | 6L | 8L | 10L | 12L | 20L |
膨脹罐容積 | 10L | 10L | 15L | 15L | 20L | 25L | 35L |
制冷劑 | R410A | ||||||
載冷劑 | 硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等 (DI溫度需要控制10℃以上) | ||||||
進(jìn)出接口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 |
冷卻水口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 | ZG1 | ZG1 1/8 |
冷卻水流量at20℃ | 1.5m3/h | 2m3/h | 2.5m3/h | 4m3/h | 4.5m3/h | 5.6m3/h | 9m3/h |
電源380V | 3.5kW | 4kW | 5.5kW | 7kW | 9.5kW | 12kW | 16kW |
溫度擴(kuò)展 | 通過(guò)增加電加熱器,擴(kuò)展-25℃~80℃ |
側(cè)墻刻蝕單通道chiller 涂布和顯影工序制冷
側(cè)墻刻蝕單通道chiller 涂布和顯影工序制冷
半導(dǎo)體專(zhuān)用溫控設(shè)備(Chiller)主要用于半導(dǎo)體制造過(guò)程中準(zhǔn)確控制反應(yīng)室的溫度。半導(dǎo)體專(zhuān)用溫控設(shè)備利用制冷循環(huán)和工藝?yán)鋮s水的熱交換原理通過(guò)對(duì)半導(dǎo)體工藝設(shè)備使用的循環(huán)液的溫度、流量和壓力進(jìn)行控制,以實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體工藝制程的控溫需求,是集成電路制造過(guò)程中的關(guān)鍵設(shè)備。
半導(dǎo)體專(zhuān)用溫控設(shè)備(Chiller)依據(jù)不同工藝制程要求控制給定溫度的循環(huán)液流經(jīng)半導(dǎo)體工藝設(shè)備反應(yīng)腔內(nèi),將熱量帶入半導(dǎo)體專(zhuān)用溫控設(shè)備,半導(dǎo)體專(zhuān)用溫控設(shè)備通過(guò)熱交換器將熱量傳遞給制冷劑,再通過(guò)制冷劑將熱量釋放給工藝?yán)鋮s水,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)工藝制程的溫度控制。
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