無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司
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當(dāng)前位置:無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司>>元器件高低溫測試機(jī)>>元器件冷水機(jī)>> LTS-202半導(dǎo)體循環(huán)制冷機(jī) 集成電路水冷散熱模組

半導(dǎo)體循環(huán)制冷機(jī) 集成電路水冷散熱模組

參   考   價(jià): 156345

訂  貨  量: ≥1 臺(tái)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號LTS-202

品       牌冠亞制冷

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地無錫市

更新時(shí)間:2024-01-11 11:03:11瀏覽次數(shù):550次

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產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 10萬-50萬
冷卻方式 水冷式 儀器種類 一體式
應(yīng)用領(lǐng)域 化工,生物產(chǎn)業(yè),電子,制藥,汽車
【無錫冠亞】半導(dǎo)體控溫解決方案主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體專?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測試機(jī)和半導(dǎo)體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備,?泛應(yīng)?于半導(dǎo)體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。半導(dǎo)體循環(huán)制冷機(jī) 集成電路水冷散熱模組



無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司的半導(dǎo)體控溫解決方案

主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體專?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測試機(jī)和半導(dǎo)體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備,

?泛應(yīng)?于半導(dǎo)體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。




【 冠亞制冷 】半導(dǎo)體行業(yè)主營控溫產(chǎn)品:

半導(dǎo)體專溫控設(shè)備

射流式?低溫沖擊測試機(jī)

半導(dǎo)體專用溫控設(shè)備chiller

Chiller氣體降溫控溫系統(tǒng)

Chiller直冷型

循環(huán)風(fēng)控溫裝置

半導(dǎo)體?低溫測試設(shè)備

電?設(shè)備?溫低溫恒溫測試?yán)錈嵩?/span>

射流式高低溫沖擊測試機(jī)

快速溫變控溫卡盤

數(shù)據(jù)中心液冷解決方案


型號FLT-002FLT-003FLT-004FLT-006FLT-008FLT-010FLT-015
FLT-002WFLT-003WFLT-004WFLT-006WFLT-008WFLT-010WFLT-015W
溫度范圍5℃~40℃
控溫精度±0.1℃
流量控制  10~25L/min  5bar max15~45L/min  6bar max25~75L/min  6bar max
制冷量at10℃6kw8kw10kw15 kw20kw25kw40kw
內(nèi)循環(huán)液容積4L5L6L8L10L12L20L
膨脹罐容積10L10L15L15L20L25L35L
制冷劑R410A
載冷劑硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等  (DI溫度需要控制10℃以上)
進(jìn)出接口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG3/4ZG3/4ZG1ZG1
冷卻水口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG1ZG1ZG1ZG1 1/8
冷卻水流量at20℃1.5m3/h2m3/h2.5m3/h4m3/h4.5m3/h5.6m3/h9m3/h
電源380V3.5kW4kW5.5kW7kW9.5kW12kW16kW
溫度擴(kuò)展通過增加電加熱器,擴(kuò)展-25℃~80℃





半導(dǎo)體循環(huán)制冷機(jī) 集成電路水冷散熱模組

半導(dǎo)體循環(huán)制冷機(jī) 集成電路水冷散熱模組


  在芯片制造過程中,淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller作為一種關(guān)鍵設(shè)備,發(fā)揮著一定作用。本文將對芯片制造工藝中的淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller進(jìn)行詳細(xì)介紹。

  一、淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller的作用

  淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller在芯片制造工藝中主要起到冷卻作用。在芯片制造過程中,各種設(shè)備產(chǎn)生的熱量較高,如光刻機(jī)、刻蝕機(jī)等,如果熱量控制不當(dāng),將會(huì)影響芯片的制造質(zhì)量和效率。淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller通過循環(huán)冷卻水將設(shè)備產(chǎn)生的熱量帶走,確保設(shè)備在穩(wěn)定的溫度環(huán)境下運(yùn)行,從而保證芯片制造的穩(wěn)定性和精度。

  二、淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller選購的流程

  1、設(shè)備選型

  根據(jù)芯片制造工藝的具體需求,選擇適合的淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller設(shè)備。需要考慮的因素包括設(shè)備的冷卻能力、穩(wěn)定性、可靠性、易維護(hù)性等。

  2、設(shè)備安裝

  淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller設(shè)備需要安裝在合適的位置,以便與芯片制造工藝中的其他設(shè)備進(jìn)行連接和配合。安裝過程中需要注意設(shè)備的安裝精度和穩(wěn)定性,確保設(shè)備能夠正常運(yùn)行。



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