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中試加熱制冷設備工藝過程密閉循環(huán)恒溫器返回列表頁

參考價: ￥ 159370

訂貨量: ≥1 臺

具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號SUNDI-275

品牌冠亞制冷

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所在地無錫市

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更新時間：2024-03-21 10:02:22瀏覽次數(shù)：342次

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產(chǎn)地類別	國產(chǎn)	價格區(qū)間	10萬-20萬
應用領(lǐng)域	化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥,綜合

產(chǎn)地類別

國產(chǎn)

價格區(qū)間

10萬-20萬

應用領(lǐng)域

化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥,綜合

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無錫冠亞冷熱一體機典型應用于：

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制

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型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質(zhì)溫度范圍

-10℃～+200℃

控制系統(tǒng)

前饋PID ,無模型自建樹算法，PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序，每條程序可編制40段步驟

通信協(xié)議

MODBUS RTU 協(xié)議 RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4～20mA或通信給定（默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質(zhì) 溫度、出口溫度、反應器物料溫度（外接溫度傳感器）三點溫度

導熱介質(zhì)溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

流量壓力 max

L/min bar

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發(fā)器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏，溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能；冷凍機過載保護；高壓壓力開關(guān)，過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環(huán)系統(tǒng)

整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng)，高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份，系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升，低溫自動補充導熱介質(zhì)。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水）cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風）cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

55*120*170

正壓防爆(水）cm

110*95*195

120*110*195

常規(guī)重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

50*68*145

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　　雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制系統(tǒng)是一種應用于化學、生物工程、制藥、新材料研發(fā)等領(lǐng)域的關(guān)鍵設備，主要用于準確控制雙層反應釜內(nèi)物料的溫度，確保反應在設定的溫度范圍內(nèi)穩(wěn)定進行。

　　雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制系統(tǒng)通常由內(nèi)外雙層結(jié)構(gòu)的反應釜、加熱/冷卻單元、溫度傳感器、智能控制器等組成。

　　1. 雙層結(jié)構(gòu)：雙層反應釜的內(nèi)層用來裝載反應物料，外層則是環(huán)繞內(nèi)層的夾套，通過夾套中的加熱或冷卻介質(zhì)來控制內(nèi)層物料的溫度。

　　2. 動態(tài)恒溫控制：冠亞制冷動態(tài)恒溫控制系統(tǒng)可以根據(jù)設定的溫度目標和物料吸熱或放熱的情況，自動調(diào)節(jié)加熱或冷卻介質(zhì)的流量和溫度，確保反應釜內(nèi)溫度始終保持在適合范圍內(nèi)。

　　3. 加熱與冷卻單元：加熱單元可以采用電加熱、蒸汽加熱等方式，冷卻單元則可通過冷卻水循環(huán)、制冷劑循環(huán)等途徑實現(xiàn)。系統(tǒng)可根據(jù)需要迅速切換加熱和冷卻模式，適應反應過程中溫度變化的需求。

　　4. 溫度傳感器與控制器：反應釜內(nèi)部通常設有多個溫度傳感器，實時監(jiān)測釜內(nèi)不同位置的溫度?？刂破骰谶@些溫度信號，運用PID或其他控制算法，準確調(diào)控加熱和冷卻單元的工作狀態(tài)，實現(xiàn)快速響應和準確控溫。

5. 應用實例：冠亞制冷雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制系統(tǒng)在生物酶催化反應、精細化學品合成、藥物結(jié)晶、新材料合成等各種對溫度控制要求苛刻的實驗和生產(chǎn)環(huán)節(jié)中都有廣泛的應用。例如，在聚合反應中，恒定的溫度可以確保反應的穩(wěn)定性和產(chǎn)物的均一性；在藥物結(jié)晶過程中，準確的溫度控制有助于提高晶體純度和收率。