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SUNDI-575-供應(yīng)制冷加熱循環(huán)裝置-15℃~50℃
  • SUNDI-575-供應(yīng)制冷加熱循環(huán)裝置-15℃~50℃
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貨物所在地:江蘇無錫市

地: 江蘇省無錫市新吳區(qū)機光電工業(yè)園鴻運路203號

更新時間:2024-10-27 21:00:07

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制冷加熱控溫系統(tǒng)
TCU
多臺反應(yīng)釜制冷加熱控溫系統(tǒng)
化學(xué)合成工藝工程控制系統(tǒng)
二級循環(huán)單元單流體控溫系統(tǒng)
制冷加熱循環(huán)器
加熱循環(huán)器
油浴加熱
元器件高低溫測試機
低溫制冷循環(huán)器
冷水機
冷卻水循環(huán)器
低溫冷凍機
工業(yè)冷凍箱
超低溫冷凍箱
低溫試驗箱
深冷冷凍機
反應(yīng)釜制冷設(shè)備
超低溫處理箱
乙二醇制冷機組
低溫處理冰柜
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制冷加熱恒溫槽
制冷加熱循環(huán)風(fēng)控制系統(tǒng)
循環(huán)風(fēng)冷凍機
其他
pid溫度控制程序
新能源汽車部件測試裝置
制冷加熱循環(huán)一體機,應(yīng)用于對玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進(jìn)行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學(xué)醫(yī)藥工業(yè)用準(zhǔn)確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應(yīng)器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。供應(yīng)制冷加熱循環(huán)裝置-15℃~50℃

<strong><strong><strong>實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應(yīng)釜制冷加熱機</strong></strong></strong>

<strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong>沈陽谷輪制冷機一體機-tcu制冷加熱系統(tǒng)</strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong> 

無錫冠亞冷熱一體機典型應(yīng)用于:

高壓反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應(yīng)器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學(xué)冷源熱源恒溫控制、半導(dǎo)體設(shè)備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

<strong><strong><strong>實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應(yīng)釜制冷加熱機</strong></strong></strong><strong><strong><strong>實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應(yīng)釜制冷加熱機</strong></strong></strong><strong><strong><strong>實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應(yīng)釜制冷加熱機</strong></strong></strong>

 

供應(yīng)制冷加熱循環(huán)裝置-15℃~50℃

供應(yīng)制冷加熱循環(huán)裝置-15℃~50℃

  制藥化工制冷加熱循環(huán)裝置溫度范圍從-120℃至200℃,智能型溫度控制。多功能報警系統(tǒng)和功能、7寸、10寸彩色TFT觸摸屏圖形顯示,操作簡單。高溫時沒有導(dǎo)熱介質(zhì)蒸發(fā)出來,而且不需要加壓的情況下就可以實現(xiàn)-80~190度、-70~220度、-88~170度、-55~250度、-30~300度連續(xù)控溫。

  根據(jù)不同領(lǐng)域的需求,冠亞機械也對設(shè)備進(jìn)行了針對性、系統(tǒng)性的改進(jìn),可實現(xiàn)串級控溫,階梯控溫,斜率控溫,冷熱切換,BT4/CT6防爆要求。目前,已經(jīng)有企業(yè)的產(chǎn)品被廣泛應(yīng)用于國內(nèi)眾多高校和科研院所,生化醫(yī)藥等企業(yè),制冷加熱循環(huán)裝置控溫解決方案要融合很多方面的創(chuàng)新技術(shù),打造整體解決方案本身也促進(jìn)了人才能力的提升。

  自主研發(fā)生產(chǎn)的制冷加熱循環(huán)裝置,流體溫控范圍:-82℃~390℃,設(shè)備裝機功率從6-1400KW不等,在制藥、化工領(lǐng)域大放異彩,控溫精度可以實現(xiàn)±0.05℃,可直接與用戶的DCS控制室聯(lián)動,通過 MODBUS RTU 協(xié)議、 RS485接口,滿足用戶對醫(yī)藥產(chǎn)品生產(chǎn)過程的高精度高復(fù)雜工序的溫度要求。

隨著現(xiàn)代科技水平的提高,研究要求的提升,意識的進(jìn)一步加強,對于各類制冷加熱循環(huán)裝置需求正變得越來越大。為不斷滿足各類化工、制藥、試驗等低溫反應(yīng)設(shè)備的需要,各大制冷加熱循環(huán)裝置設(shè)備企業(yè)正不斷加大創(chuàng)新力度,進(jìn)一步更新升級制冷加熱控溫技術(shù)。

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