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激光在半導體檢測中的應用

閱讀:350        發(fā)布時間:2024-7-23


什么是半導體檢測?

半導體檢測是制造集成電路(又稱微芯片)過程中至關重要的一步,通常采用多種技術,以激光為主,對半導體晶圓和其他組件進行精密檢查,以發(fā)現(xiàn)可能影響最終產(chǎn)品性能或功能的缺陷或瑕疵。

激光在保障現(xiàn)代半導體的質量和精度方面發(fā)揮著至關重要的作用。這些微小的電子器件依賴于極其微小的特征和結構,而激光提供了進行有效檢驗和測量所需的精確性、控制以及非破壞性能力。

為什么半導體檢測很重要?

微觀精度:現(xiàn)代集成電路包含極其微小的晶體管和特征,通常以納米(十億分之一米)為單位進行測量。即使是一個缺陷也可能破壞芯片內部微妙的電氣通路,導致芯片失效。

產(chǎn)量管理:半導體的制造過程涉及數(shù)百個步驟。盡早發(fā)現(xiàn)缺陷可以防止在后續(xù)步驟中浪費精力處理有缺陷的晶圓,從而提高整體生產(chǎn)產(chǎn)量。

質量和可靠性:半導體器件為從智能手機到醫(yī)療設備等各種設備提供動力。確保最終產(chǎn)品符合嚴格的質量標準并能夠可靠地工作。

半導體應用激光的關鍵特性:

單一波長

半導體的特征是微觀的,因此具有非常精確單一波長的激光至關重要。這確保了精確的聚焦,并最小化了測量中的誤差。

高穩(wěn)定性

穩(wěn)定的輸出功率和極小的波長波動對于可靠且可重復的測量至關重要。

可控功率

精確控制激光強度的能力使我們能夠精細地與半導體材料相互作用。

激光在半導體檢驗和計量中的應用

光致發(fā)光成像

激光用光激發(fā)半導體材料,使其發(fā)出自己的光(光致發(fā)光)。發(fā)出的光可以揭示材料的性質和缺陷。光的發(fā)射變化可以指示雜質、應力或其他問題

干涉測量

激光被用于各種干涉技術中,以精確測量半導體特征的尺寸。通過將激光束分開并分析它們與樣品相互作用后的相互作用,可以精度測量高度或厚度的微小變化。

光學關鍵尺寸(OCD)計量

使用激光測量半導體晶圓上特征的關鍵尺寸(寬度、高度)。精確的OCD計量對于確保最終電子設備的正常運行至關重要。

表面粗糙度測量

激光可用于分析半導體材料的表面粗糙度。即使表面平滑度有輕微變化也會影響設備性能。

Skylark激光器專門為半導體檢測而設計

Skylark NX激光器(Skylark 320,Skylark 349Skylark 532,Skylark 640,Skylark 780)提供超穩(wěn)定、高功率、單頻激光源,以其優(yōu)異的波長穩(wěn)定性、窄線寬和長相干長度而脫穎而出。適用于廣泛的半導體材料和結構分析應用以及選擇的晶圓檢測技術:

l  晶圓計量

l  晶圓缺陷檢測

l  薄膜計量

l  半導體材料分析

l  光致發(fā)光光譜

對于半導體檢測應用,我們的320349nm紫外激光器是理想的選擇。



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