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愛安德介紹什么是半導(dǎo)體曝光設(shè)備?

時(shí)間:2024/8/30閱讀:312
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愛安德介紹什么是半導(dǎo)體曝光設(shè)備?

半導(dǎo)體曝光設(shè)備

半導(dǎo)體曝光設(shè)備是半導(dǎo)體制造過程中用于在硅片上繪制電路圖案的設(shè)備。強(qiáng)大的紫外光透過光掩模,作為電路圖案的原型,電路圖案被轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的硅晶片上。近年來,一些設(shè)備使用波長為 13 nm 的激光(稱為 EUV)來微型化精細(xì)電路圖案。由于定位等要求精度,因此設(shè)備價(jià)格昂貴。

全球電子設(shè)備市場(chǎng)持續(xù)擴(kuò)大,支撐其的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)變得越來越重要。盡管2019年全球半導(dǎo)體市場(chǎng)經(jīng)歷了負(fù)增長,但盡管過去經(jīng)歷過雷曼沖擊,但仍持續(xù)擴(kuò)張。近年來,存儲(chǔ)器的技術(shù)發(fā)展從小型化轉(zhuǎn)向3D技術(shù),蝕刻技術(shù)的重要性日益增加。

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