目錄:安徽吸收譜儀器設備有限公司>>光催化原位池>> HC-XAFS-T高溫高壓原位池
| 供貨周期 | 現(xiàn)貨 | 應用領域 | 化工,能源,建材 |
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型號HC-XAFS-T
高溫高壓原位池是一款為研究電極材料在熱催化實驗中的結(jié)構(gòu)變化而設計。工作電極（WE）放置在透視窗口處，從而使X射線能夠穿透工作電極。
●此裝置主體為高強度鋼結(jié)構(gòu)，可以耐800oC高溫和1~3MPa的高壓（配置小窗口可以實現(xiàn)更高壓力）；
●實現(xiàn)1℃精確控溫；
●此原位池可用于透射模式原位XAFS測試；
●靈活控制階梯式升溫，并可通入各種反應氣氛，實時監(jiān)測升溫條件下物相變化；
●光窗直徑：13mm; 光學窗口選用Be窗；樣品片為粉末狀圓片；
●配循環(huán)冷卻裝置，循環(huán)水溫控制在25oC。
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