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深圳市京都玉崎電子有限公司

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液晶顯示器件、觸摸屏、半導(dǎo)體硅芯片、集成電路、高精度印制電路板、光學(xué)器件、石英晶體、密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料
臭氧濃度檢測(cè)儀用UV燈管
SEN日森小王子冷陰極筆式燈 365nm 燈管

詳細(xì)介紹

SEN日森小王子冷陰極筆式燈 365nm 燈管

SEN日森
紫外線清洗
紫外光清洗的工作原理
紫外光清洗技術(shù)是利用有機(jī)化合物的光敏氧化作用達(dá)到去除黏附在材料表面上的有機(jī)物質(zhì)，經(jīng)過(guò)光清洗后的材料表面可以達(dá)到“原子清潔度"。更詳盡的講：UV光源發(fā)射波長(zhǎng)為185nm和254nm的光波，具有很高的能量,當(dāng)這些光子作用到被清洗物體表面時(shí),由于大多數(shù)碳?xì)浠衔飳?duì)185nm波長(zhǎng)的紫外光具有較強(qiáng)的吸收能力,并在吸收185nm波長(zhǎng)的紫外光的能量后分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子和中子，這就是所謂光敏作用。空氣中的氧氣分子在吸收了185nm波長(zhǎng)的紫外光后也會(huì)產(chǎn)生臭氧和原子氧。臭氧對(duì)254nm波長(zhǎng)的紫外光同樣具有強(qiáng)烈的吸收作用,臭氧又分解為原子氧和氧氣。其中原子氧是極活潑的,在它作用下,物體表面上的碳和碳?xì)浠衔锏姆纸馕锟苫铣煽蓳]發(fā)的氣體：二氧化碳和水蒸氣等逸出表面，清除了黏附在物體表面上的碳和有機(jī)污染物。清洗時(shí)，使基板治濕性向上。玻璃基板是以滾輪方式輸送，上方裝置低壓水銀燈產(chǎn)生紫外線照射。玻璃基板所累積紫外線能量愈多，其表面水接觸愈小，成反比關(guān)系。一般STN-LCD制作過(guò)程中，需求的玻璃基板累積紫外線能量為300nj/cm2(2537nm)以上。而彩STN-LCD及彩色濾光片制作過(guò)程中，要求的玻璃基板累積紫外線能量600mj/cm2(2537nm)。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

UV光清洗機(jī)PL16-110

1.本裝置是為了運(yùn)用短波長(zhǎng)紫外線進(jìn)行表面處理、干式清洗的效果而作的試驗(yàn)機(jī)。

2.試驗(yàn)臺(tái)到光源使用特定的升降機(jī)可以任意改變高度，照度可以使用照度計(jì)測(cè)定。

3.抽出式試驗(yàn)臺(tái)，旋轉(zhuǎn)式照射臺(tái)等多種姊妹產(chǎn)品供您選擇。

產(chǎn)品描述：

桌上型表面處理裝置其主要原理為紫外線燈發(fā)出的185nm波長(zhǎng)和254nm波長(zhǎng)具有很高的能量，高于大多數(shù)有機(jī)物的結(jié)合能量。

由于大多數(shù)碳?xì)浠衔飳?duì)185nm波長(zhǎng)的紫外線具有較強(qiáng)的吸收能力，并且可以在吸收185nm波長(zhǎng)后分解成離子，流離態(tài)原子，受激分子和中子等，這就是光敏作用。

空氣中的氧分子在吸收了185nm波長(zhǎng)的紫外光后，會(huì)產(chǎn)生臭氧和氧氣，臭氧對(duì)254nm波長(zhǎng)具有很強(qiáng)的吸收性，臭氧有可以分解為氧原子和氧氣。

氧原子具有氧化性，可以將碳?xì)浠湘I切斷，生成水和二氧化碳等易揮發(fā)氣體，從被照射物表面飄逸出，清除物體表面的污染物。

規(guī)格：

適用范圍液晶顯示器件、觸摸屏、半導(dǎo)體硅芯片、集成電路、高精度印制電路板、光學(xué)器件、石英晶體、密封技術(shù)、主要材料：ITO玻璃、光學(xué)玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅芯片和帶有氧化膜的金屬等進(jìn)行精密清洗處理。可以去除污垢：有機(jī)性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹(shù)脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤(rùn)滑油、殘余的光刻膠等使用紫外線清洗時(shí)要注意以下幾個(gè)方面：

（1）污垢中的無(wú)極成分或處理后的灰分會(huì)殘留在物體表面，因此需要采用相應(yīng)的辦法進(jìn)一步清除，如加裝真空除塵或與超聲波干洗配套使用。

（2）處理時(shí)，當(dāng)清洗對(duì)象表面與照射光源距離稍遠(yuǎn)時(shí)，產(chǎn)生的臭氧會(huì)自動(dòng)分解失去作用，一定要注意清洗表面與光源的距離，也就是注意平臺(tái)或傳送帶上工件的高度或厚度。

（3）這種處理方法要求紫外線能透過(guò)清洗對(duì)象表面，對(duì)有立體結(jié)構(gòu)的清洗對(duì)象不太適合，只能清洗表面結(jié)構(gòu)的物體。

（4）由于需防止臭氧擴(kuò)散對(duì)人體造成損害，需要在封閉裝置中進(jìn)行清洗。

（5）由于臭氧是通過(guò)氧化反應(yīng)去除污垢的，所以容易被氧化的表面不能用這種方法處理。

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