UV/O3清洗是使用紫外線產(chǎn)生活性氧，同時分解、氧化揮發(fā)除去附著在基板表面的有機物的干清洗方法。這是對放置在大氣中的基板照射真空紫外線的簡便方法，進入20世紀(jì)80年代后半期，隨著LCD產(chǎn)業(yè)的發(fā)展而被導(dǎo)入到制造工序中。作為濕處理的前工序、成膜工序的前清洗等使用，光源使用低壓水銀燈。

近年來，要求基板尺寸的大型化、處理時間的縮短化，準(zhǔn)分子光照射裝置是為了滿足該要求而開發(fā)的。

UV/O3清洗的原理如下所示。

光的波長越短，其能量越大，分解有機物（CmHnOk）的能力越好。因此，172nm準(zhǔn)分子光的清洗能力優(yōu)于現(xiàn)有的低壓汞燈。

2.光源和特征

本裝置是搭載了中心波長為172nm的Xe2*準(zhǔn)分子燈的準(zhǔn)分子光源。

概述裝置的結(jié)構(gòu)。

基本結(jié)構(gòu)如圖1所示。在金屬塊上設(shè)置的多個圓筒槽上固定有準(zhǔn)分子燈。金屬塊包括冷卻水流路以允許水冷，燈通過金屬塊冷卻。在燈和燈之間設(shè)置有山形的反射鏡，在使窗面的放射照度分布均勻的同時起到有效地取出光的作用。燈、金屬塊、山形鏡被收納在金屬容器內(nèi)。金屬容器具有氮氣的入口、出口，容器內(nèi)充滿對準(zhǔn)分子光吸收少的氮氣。在燈的前面設(shè)置有有效透過真空紫外光的窗玻璃（合成石英），由窗玻璃照射準(zhǔn)分子光。

作為光源的特征

①不損害壽命，可瞬間點燈點燈點燈

②溫度上升少，可以進行低溫處理

③由于是平面窗，清掃性好，維護性好

這樣的點。不損害壽命地能夠進行閃爍點燈意味著僅在必要時點燈即可，實質(zhì)上導(dǎo)致長壽命化，燈更換次數(shù)減少即可。照片1是具有750mmx940mm的窗的照射裝置UER759412-172的照片。UER759412-172的概略規(guī)格如表.1所示。

隨著基板尺寸的大型化，統(tǒng)一曝光清洗方式變得困難，現(xiàn)在提出了掃描方式的高輸出單元。最大對應(yīng)掃描寬度1040mm，窗面輻照度MAX50～60mW/cm2。批量曝光方式、掃描方式都根據(jù)用途設(shè)計對應(yīng)。

日本進口Ushio牛尾VUV-S172-LES紫外線清洗裝置

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