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曝光裝置是在半導(dǎo)體、液晶顯示器等制造現(xiàn)場使用的裝置，通過照射光在基板上描繪電路、像素等圖案。由于它們使用強的光線并需要精確控制平臺等，許多產(chǎn)品體積龐大且成本數(shù)十億美元。曝光工藝是半導(dǎo)體和液晶顯示器制造中非常重要的設(shè)備，因為它決定了設(shè)計數(shù)據(jù)（ CAD數(shù)據(jù)）的圖案。每家公司都開發(fā)了多種曝光方法并在自己的設(shè)備中使用它們。曝光設(shè)備的應(yīng)用
圖1. TFT液晶顯示器的TFT基板側(cè)的制造流程概述曝光設(shè)備主要用于半導(dǎo)體制造現(xiàn)場和液晶顯示器等平板顯示器（FPD）制造現(xiàn)場。在半導(dǎo)體制造工藝中，以硅晶片為基板，形成氧化膜，涂敷光致抗蝕劑（感光材料），并通過光掩模用從曝光裝置發(fā)出的強紫外線照射涂敷表面。允許通過蝕刻等去除不需要的部分。這種使用曝光設(shè)備的方法稱為光刻法。在LCD制造過程中，一般采用玻璃基板，并重復(fù)金屬薄膜沉積、光刻和蝕刻的多個循環(huán)?？梢栽谝粋€基板上形成像素電極和開關(guān)元件(TFT元件等)，并且可以在另一基板上形成具有光的三基色(紅、綠和藍)的濾色器。通過將兩個基板粘合在一起并在其間放置液晶材料，就完成了用于 LCD 顯示器的面板。選擇曝光設(shè)備時，需要在購買前與設(shè)備制造商充分討論曝光所用光源的類型和精度、載物臺的精度等，因為其價格非常昂貴。
圖1. TFT液晶顯示器的TFT基板側(cè)的制造流程概述曝光設(shè)備主要用于半導(dǎo)體制造現(xiàn)場和液晶顯示器等平板顯示器（FPD）制造現(xiàn)場。在半導(dǎo)體制造工藝中，以硅晶片為基板，形成氧化膜，涂敷光致抗蝕劑（感光材料），并通過光掩模用從曝光裝置發(fā)出的強紫外線照射涂敷表面。允許通過蝕刻等去除不需要的部分。這種使用曝光設(shè)備的方法稱為光刻法。在LCD制造過程中，一般采用玻璃基板，并重復(fù)金屬薄膜沉積、光刻和蝕刻的多個循環(huán)?？梢栽谝粋€基板上形成像素電極和開關(guān)元件(TFT元件等)，并且可以在另一基板上形成具有光的三基色(紅、綠和藍)的濾色器。通過將兩個基板粘合在一起并在其間放置液晶材料，就完成了用于 LCD 顯示器的面板。選擇曝光設(shè)備時，需要在購買前與設(shè)備制造商充分討論曝光所用光源的類型和精度、載物臺的精度等，因為其價格非常昂貴。 