日本ORC歐阿希 RDI-MP印刷電路板直接曝光系統(tǒng)
它是一種小型輕便的手持式測量儀器。適用于管理生產(chǎn)現(xiàn)場配備紫外線燈的設(shè)備。
請使用它來管理紫外線燈的紫外線照射量(照度/光量)。
日本ORC歐阿希 RDI-MP印刷電路板直接曝光系統(tǒng)
日本ORC歐阿希 RDI-MP印刷電路板直接曝光系統(tǒng)
它是一種小型輕便的手持式測量儀器。適用于管理生產(chǎn)現(xiàn)場配備紫外線燈的設(shè)備。
請使用它來管理紫外線燈的紫外線照射量(照度/光量)。
這是一種小型、輕量的手持式,可讓您輕松管理曝光設(shè)備的照度和光量??梢暂p松測量紫外線照度和光強(qiáng)度。根據(jù)您正在使用(或計(jì)劃使用)的光源以及抗蝕劑的靈敏度等選擇UV-25、35或42的接收器。測量數(shù)據(jù)可通過RS-232C通信輸出傳輸。它還具有模擬輸出。它是一種小型輕便的手持式測量儀器。適用于管理生產(chǎn)現(xiàn)場配備紫外線燈的設(shè)備。
請使用它來管理紫外線燈的紫外線照射量(照度/光量)。
采用254nm波長, 去除電荷。
單波長允許低溫處理。
用低入射角紫外線有效照射目標(biāo)區(qū)域。
提高了LSI的成品率和可靠性。
閃存、其他非易失性存儲(chǔ)器、圖像傳感器等的電荷去除和數(shù)據(jù)擦除。
這是一種小型、輕量的手持式,可讓您輕松管理曝光設(shè)備的照度和光量??梢暂p松測量紫外線照度和光強(qiáng)度。根據(jù)您正在使用(或計(jì)劃使用)的光源以及抗蝕劑的靈敏度等選擇UV-25、35或42的接收器。測量數(shù)據(jù)可通過RS-232C通信輸出傳輸。它還具有模擬輸出。
阻焊劑形成
FC-BGA板/FC-CSP板AiP等各種模塊板HDI板
各種其他敏感材料的曝光
Photovia、覆蓋膜等
實(shí)現(xiàn)了40μm的抗蝕劑開口,這對應(yīng)于封裝基板的小型化。 (EDi-5308)配備新型UV燈光源,光強(qiáng)度顯著提高,與之前的型號(hào)相比,生產(chǎn)率提高了10%。 (EDi-8308)由于紫外燈光源的寬帶波長,可以使用多種敏感材料。高精度校正技術(shù)DAT和新型高精度平臺(tái)實(shí)現(xiàn)了6μm的高位置精度(EDi-5308)通過Die by Die對齊功能(可選功能)解決FO-PLP的Die移位問題兼容最大 25"X32" 的大型板 (EDi-8310)
| 光源 | 有效曝光尺寸 | 基材寬度 | 解決 | 吞吐量 | 總體疊加精度 |
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RDi-10 雙核 | 半導(dǎo)體激光器 | 635x520毫米 | 250mm 寬 x 2 個(gè)水槽(500mm 寬 x 1 個(gè)水槽也可以) | 10μm長/秒 | 38秒/平面@30mJ MD:500mm | 6μm |
RDi-MP | 半導(dǎo)體激光器 | 515x260毫米 | 250mm(*其他要求可協(xié)商) | 4μm長/秒 | 45秒/平面@55mJ MD:515mm | 3.5μm |
RDi-MP 二重奏 | 半導(dǎo)體激光器 | 515x590毫米 | 250mm寬x 2個(gè)主水槽(*其他要求可協(xié)商) | 4μm長/秒 | 44秒/平面@50mJ MD:500mm | 3.5μm |
RDi?80 | 紫外線燈 | 635x520毫米 | 250/500毫米 | 30μm L/S / Φ80μm | 58秒/平面@150mJ 69秒/平面@200mJ MD:610mm | 7μm |