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產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
產(chǎn)品簡介： SE-Mapping 光譜橢偏儀是一款可定制化 Mapping繪制化測量光譜橢偏儀，采用行業(yè)前沿創(chuàng)新技術(shù)，配置全自動 Mapping測量模塊，通過橢偏參數(shù)、透射/反射率等參數(shù)的測量，快速實現(xiàn)薄膜全基片膜厚以及光學(xué)參數(shù)自定義繪制化測量表征分析。SE-Mapping光譜橢偏儀廣泛應(yīng)用OLED，LED，光伏，集成電路等工業(yè)應(yīng)用中,實現(xiàn)大尺寸全基片膜厚、光學(xué)常數(shù)以及膜厚分布快速測量與表征。
| 產(chǎn)品型號 | SE-Mapping 光譜橢偏儀 |
| 主要特點 | 1、全基片橢偏繪制化測量解決方案
2、支持產(chǎn)品設(shè)計以及功能模塊定制化，一鍵繪制測量
3、配置 Mapping 模塊，全基片自定義多點定位測量能力
4、豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結(jié)構(gòu)模型庫，保證強(qiáng)大數(shù)據(jù)分析能力
5、采用氘燈和鹵素?zé)魪?fù)合光源，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)
6、高精度旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器調(diào)制、 PCRSA 配置， 實現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采集 7、具備全基片自定義多點自動定位測量能力，提供全面膜厚檢測分析報告 |
| 1、自動化程度：固定角+  mapping2、應(yīng)用定位：檢測型
3、基本功能： Psi/Delta、N/C/S、R 等光譜
4、分析光譜： 380-1000nm(可擴(kuò)至 193-2500nm)
5、單次測量時間： 0.5-5s
6、重復(fù)性測量精度： 0.01nm
7、光斑大?。?/span> 大光斑 2-3mm,微光斑200um
8、入射角調(diào)節(jié)方式：固定角
9、入射角范圍： 65°
10、找焦方式：手動找焦
11、Mapping1 程： 300x300mm
12、支持樣件尺寸： 至 300mm | ||
| 可選配件 | 3 | 真空泵 |
| 4 | 透射吸附組件 | |