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GEEDIMK-3pharmHT高溫?zé)崴綞DI膜堆超純水三噸edi模塊

EDI模塊MK-3美國GEEDI模塊美國GEMK-3超純水工業(yè)用去電離子
安經(jīng)理一三三九二八五零六

一、GEEDIMK-3pharmHT高溫?zé)崴綞DI膜堆超純水edi模塊簡(jiǎn)介
MK-3 pharm HT
*高進(jìn)水溫度、：45℃；
消毒溫度、：80-85℃；
*大進(jìn)水壓力：7bar；
正常流量時(shí)壓降范圍：1.4-2.1bar；
產(chǎn)品水流量：1.6~4.6m3/h。

二、GEEDIMK-3pharmHT高溫?zé)崴綞DI膜堆超純水edi模塊用于：

為電力、半導(dǎo)體、化工、冶金和一般工業(yè)等行業(yè)提供超純水；

連續(xù)地生產(chǎn)混床產(chǎn)水級(jí)質(zhì)量的超純水；
無需對(duì)模塊內(nèi)的混床樹脂進(jìn)行酸堿再生；
保證不漏水；
無需鹽水注入和濃水循環(huán)，簡(jiǎn)化了設(shè)計(jì)
三、GEEDIMK-3pharmHT高溫?zé)崴綞DI膜堆超純水edi模塊說明和用途

GE高純水制取設(shè)備EDI模塊GEEDI模塊單模塊3m3/hMK-3EDI模塊電源超純水工業(yè)用去電離子為電去離子（EDI）模塊，利用電流對(duì)反滲透產(chǎn)水進(jìn)行去離子和拋光處理。E-Cell-3X產(chǎn)水為超純水，適用于當(dāng)今對(duì)水質(zhì)要求苛刻的行業(yè)。

三、GEEDIMK-3pharmHT高溫?zé)崴綞DI膜堆超純水edi模塊質(zhì)量保證

具有CESUEZ、UL和CSA標(biāo)識(shí)；
由通過ISO 9001：2000認(rèn)證的工廠制造

四、GEEDIMK-3pharmHT高溫?zé)崴綞DI膜堆超純水edi模塊規(guī)格型號(hào)

EDI模塊規(guī)格齊全，單個(gè)模塊產(chǎn)水量從 10 L/h到10m3/h。數(shù)十個(gè)模塊并聯(lián)可以產(chǎn)生一個(gè)幾乎無限規(guī)模的系統(tǒng)。在適當(dāng)操作條件下運(yùn)行，模塊可以生產(chǎn)出電阻率15—18 M的高純水。
微型：10 L/h，30 L/h，60 L/h，100 L/h，200 L/h
標(biāo)準(zhǔn)型：0．5 m3/h，1m3/h，2 m3/h，3 m3/h
大型：6 m3/h，8 m3/h，10 m3/h

三、GEEDIMK-3pharmHT高溫?zé)崴綞DI膜堆超純水edi模塊運(yùn)行過程

1、淡水進(jìn)水淡水室后，淡水中的離子與混床樹脂發(fā)生離子交換，從而從水中脫離；

2、被交換的離子受電性吸引作用，陽離子穿過陽離子交換膜向陰極遷移，陰離子穿過陰離子交換膜向陽極遷移，并進(jìn)入濃水室從而從淡水中去除。

3、離子進(jìn)入濃水室后，由于陽離子無法穿過因離子交換膜，因此其將被截留在濃水室，同樣，陰離子無法穿過陽離子交換膜，被截留在濃水室，這樣陰陽離子將隨濃水流被排出模塊；與此同時(shí)，由于進(jìn)水中的離子被不斷的去除，那么淡水的純度將不斷的提高，待由模塊出來的時(shí)候，其純度可以達(dá)到接近理論純水的水平；

4、水分子在電的作用下被不斷的離解為H+和OH-，H+和OH-將分別使得被消耗的陽/陰樹脂連續(xù)的再生。過程1和過程3是樹脂的消耗和再生的兩個(gè)相反過程，這兩者會(huì)在模塊內(nèi)部形成一個(gè)動(dòng)態(tài)平衡。

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