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| 應用領域 | 環(huán)保,能源,電子,電氣,綜合 |
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日本toyokokagaku高靈敏度緊湊質譜儀分析儀 ASTON Impact 特點介紹
“ASTON Impact"是一款適用于氣體分析的過程氣體監(jiān)測的高靈敏度質譜儀。
這是一款追求性價比和易用性的電子電離離子源型號。
它節(jié)省空間并允許您監(jiān)測大氣壓區(qū)域的氣體。
雖然體積小，但質量范圍擴展至m/z285，作為過程氣體監(jiān)測用質譜儀，成功實現(xiàn)了超越其他公司的高靈敏度測量。
它采用節(jié)省空間的設計，包括配備電子電離源和二次電子倍增器的小型四極傳感器以及泵。
日本toyokokagaku高靈敏度緊湊質譜儀分析儀 ASTON Impact 規(guī)格參數(shù)
替代使用氦 (He) 載體的分析儀，例如氣相色譜儀
FT-IR 分析儀的替代品
用于連續(xù)分析廢氣以回收二氧化碳 (CO 2 )
測量廢氣中氫氣（H 2 ）和其他氣體的濃度
半導體設備的氣體測量
CVD 清洗終點
蝕刻端點
薄膜沉積工藝條件測量
用于干泵維護和安全保證的氣體測量
發(fā)酵過程中產生的氣體（乙醇等）的監(jiān)測和測量
NMP監(jiān)測測量
冷凍干燥過程中的殘余水分管理測量
廢氣管理測量
檢測各種氣體泄漏的測量
1.首先
化學氣相沉積（CVD）廣泛應用于半導體制造工藝中。它包括許多形成氧化膜和金屬膜的步驟。
在 CVD 中，固體沉積物在腔室內壁上的積累以及由此產生的顆粒對工藝產生重大影響。
因此，根據成膜頻率需要進行腔室清潔。
通常，腔室清潔是通過考慮終點的經過時間來控制的。
2.測試方法
1. 用不銹鋼管將閥門和 ASTON Impact 連接到 CVD 設備。
2. 開始清潔過程并開始測量 ASTON Impact。
3. 監(jiān)測反應產物和清潔氣體的趨勢。
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