目錄:上海首立實業(yè)有限公司>>HORIBA（過程&環(huán)境）>>煙氣分析系統(tǒng)>> ENDA-C2000煙氣中NH3分析系統(tǒng)
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,石油,能源,電子 |
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煙氣中NH3分析系統(tǒng)
搭載有無漂移化學(xué)發(fā)光法分析儀（CLA）。
實現(xiàn)了NH3、NOx小量程0?10ppm。
采用了利用氧氣常磁性的劃時代磁壓方式的氧氣分析儀。實現(xiàn)了優(yōu)異的耐久性、高精度、高速響應(yīng)。
具有從低濃度到高濃度的大范圍量程。
采用了大幅提高了操作性的前面操作方式。
具有可通過微機(jī)對檢測狀態(tài)進(jìn)行監(jiān)測、控制、運算處理、存儲等功能，容易使用，更加方便進(jìn)行維護(hù)。
良好的自我診斷功能
還可以滿足設(shè)置條件多樣化的需求。
檢測成分和量程 | NH3: |
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再現(xiàn)性 | ±0.5FS％、如果包括可選項量程時，±1.0FS％（周圍溫度、-５?40℃的情形） |
響應(yīng)速度 | 裝置入口:T90、90秒以下 |
(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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