“第十一屆世界制藥原料中國展”（CPhI, ICSE & BioPh China 2011）暨“2011世界制藥機械、包裝設備與材料中國展”（P-MEC China 2011）將于2011年6月21日至23日在上海新博覽中心舉辦

公司展位號E1C05，屆時將攜干濕二合一激光粒度儀HELOS/OASIS（測試范圍0.1-3500μm）、動態(tài)粒度粒形分析儀QICPIC（測試范圍1-20000μm）、納米激光粒度儀NANOPHOX（測試范圍1-10000nm）、超聲衰減粒度儀OPUS（0.01-3000μm），并有德國及中國工程師在現場為您做的介紹與解答。

德國新帕泰克的干濕二合一粒度儀HELOS/OASIS，結合干法與濕法測試的雙重優(yōu)點，分散效果好、測試速度快、性與精度高。

動態(tài)粒度粒形儀QICPIC在分析粒度分布信息的基礎上，提供粒形信息，為以顆粒形態(tài)為表征的行業(yè)與分析研究院提供了包括球形度、長寬比、纖維長度等更多參數的信息。

納米粒度儀NANOPHOX使用PCCS的原理，消除多重散射的影響，測試濃度高，性好，同時提供穩(wěn)定性分析，是分析納米粉體的*選擇。

誠摯歡迎各界人士的蒞臨展位交流！