MIPC1000多功能等離子清洗儀，專門針對SEM/TEM等各類表面/微觀分析設備開發(fā)，能夠有效去除樣品/樣品桿表面污染物，防止碳沉積帶來圖像分辨率降低及對樣品微區(qū)成分分析造成誤判，同時可改善樣品表面親水性。該系統(tǒng)配備7英寸超大清洗樣品桿，同時清洗多個樣品，利用快旋頭設計，可滿足SEM/FIB/EPMA/SIMS/XPS/TEM等各類真空腔體清洗，提升儀器分析準確性。

MIPC1000多功能等離子清洗儀最多可配備四路氣體進氣系統(tǒng)，搭配高精度質量流量計（MFC），可實現任意比例氣體混合，從而實現不同工藝氣體清洗需求。通過配備的7英寸觸屏控制系統(tǒng)，能夠實現清洗配方的建立和存儲，可實現一鍵完成樣品清洗。 Downstream過濾電場能夠過濾傳統(tǒng)等離子體中離子/電子成分，僅利用低能自由基進行清洗，能夠去除濺射損傷、熱效應及刻蝕效應對樣品微觀結構和成分的破壞。滿足各類真空設備樣品/樣品艙清洗，同時可對電鏡光闌、各類真空部件進行清洗，滿足各種清洗需求。

技術優(yōu)勢

◆ 多功能：具備在線腔體清洗和獨立清洗功能；

◆ 高效性：ICP誘導激發(fā)，清洗范圍廣；

◆ 超高真空清洗：＜5mTor ~ 2Tor ；

◆ 清洗功率范圍大：0-100W ；

◆ 清洗柔和：Downstream設計，無濺射效應，  無熱效應；

◆ 可同時清洗/存儲兩根透射電鏡樣品桿；

◆ 擴展性好：采用快旋頭，等離子發(fā)生器，可輕松對各類真空腔體進行清洗；

◆ 超大清洗樣品艙：直徑7英寸X7英寸高；

◆ 能夠碳膜清洗，增加增加碳膜親水性；

◆ 觸屏控制：7英寸觸屏，配方式操作。

主要應用

◆ FIB/SEM/TEM/Nano Probe

◆ XPS/GC/SIMS

◆ Synchrotron Radiation

◆ 各類真空腔體清洗

◆ 各類分析設備樣品清洗

MCA實機圖

碳膜清洗夾具