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日本Otsuka大塚FE-5000橢偏儀可在紫外波長
參考價: 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 產(chǎn)品型號
  • OTSUKA/日本大塚 品牌
  • 代理商 廠商性質(zhì)
  • 成都市 所在地

訪問次數(shù):48更新時間:2025-02-22 10:11:01

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產(chǎn)品簡介
產(chǎn)地類別 進口 價格區(qū)間 面議
應用領(lǐng)域 綜合
日本Otsuka大塚FE-5000橢偏儀可在紫外波長-成都藤田科技提供
采用線掃描方式檢測整面薄膜 硬件軟件均為創(chuàng)新設計 作為專業(yè)膜厚測定廠商,提供多種支援 實現(xiàn)高精度測量實現(xiàn)高速測量 不受偏差影響 可對應寬幅樣...
產(chǎn)品介紹

日本Otsuka大塚FE-5000橢偏儀可在紫外波長-成都藤田科技提供

日本Otsuka大塚FE-5000橢偏儀可在紫外波長

產(chǎn)品信息

特點

● 可在紫外和可見(250至800nm)波長區(qū)域中測量橢圓參數(shù)

● 可分析納米級多層薄膜的厚度

● 可以通過超過400ch的多通道光譜快速測量Ellipso光譜

● 通過可變反射角測量,可詳細分析薄膜

● 通過創(chuàng)建光學常數(shù)數(shù)據(jù)庫和追加菜單注冊功能,增強操作便利性

● 通過層膜貼合分析的光學常數(shù)測量可控制膜厚度/膜質(zhì)量


測量項目

測量橢圓參數(shù)(TANψ,COSΔ)

光學常數(shù)(n:折射率,k:消光系數(shù))分析

薄膜厚度分析


用途

半導體晶圓
柵氧化膜,氮化膜
SiO2,SixOy,SiN,SiON,SiNx,Al2O3,SiNxOy,poly-Si,ZnSe,BPSG,TiN
光學常數(shù)(波長色散)

復合半導體
AlxGa(1-x)多層膜、非晶硅

FPD
取向膜
等離子顯示器用ITO、MgO等

各種新材料
DLC(類金剛石碳)、超導薄膜、磁頭薄膜

光學薄膜
TiO2,SiO2多層膜、防反射膜、反射膜

光刻領(lǐng)域
g線(436nm)、h線(405nm)、i線(365nm)和KrF(248nm)等波長的n、k評估


原理

包括s波和p波的線性偏振光入射到樣品上,對于反射光的橢圓偏振光進行測量。s波和p波的位相和振幅獨立變化,可以得出比線性偏振光中兩種偏光的變換參數(shù),即p波和S波的反射率的比tanψ相位差Δ。
日本Otsuka大塚FE-5000橢偏儀可在紫外波長    


產(chǎn)品規(guī)格

型號

FE-5000

樣品尺寸

200x200毫米

入射(反射)的角度范圍

45至90°

入射點直徑*2

關(guān)于φ1.2sup*3

測定波長范圍*5

250至800納米

平臺驅(qū)動方式

手動/自動

裝載機兼容

尺寸,重量

1300(W)×900(D)×1750(H)mm
    約350公斤*7

*1可以驅(qū)動偏振器,可以分離不感帶有效的位相板。
*2取決于短軸角度。
*3對應微小點(可選)
*4它是使用VLSI標準SiO2膜(100nm)時的值。
*5可以在此波長范圍內(nèi)進行選擇。
*6光源因測量波長而異。
*7選擇自動平臺時的值。


測量示例

以梯度模型分析ITO結(jié)構(gòu)[FE-0006]

作為用于液晶顯示器等的透明電極材料ITO(氧化銦錫),在成膜后的退火處理(熱處理)可改善其導電性和色調(diào)。此時,氧氣狀態(tài)和結(jié)晶度也發(fā)生變化,但是這種變化相對于膜的厚度是逐漸變化的,不能將其視為具有光學均勻組成的單層膜。
以下介紹對于這種類型的ITO,通過使用梯度模型,從上界面和下界面的nk測量斜率。

日本Otsuka大塚FE-5000橢偏儀可在紫外波長    

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考慮到表面粗糙度測量膜厚度值[FE-0008]

當樣品表面存在粗糙度(Roughness)時,將表面粗糙度和空氣(air)及膜厚材料以1:1的比例混合,模擬為“粗糙層",可以分析粗糙度和膜厚度。以下介紹了測量表面粗糙度為幾nm的SiN(氮化硅)的情況。

   

  

使用非干涉層模型測量封裝的有機EL材料[FE-0011]

有機EL材料易受氧氣和水分的影響,并且在正常大氣條件下它們可能會發(fā)生變質(zhì)和損壞。因此,在成膜后立即用玻璃密封。以下介紹在密封狀態(tài)下通過玻璃測量膜厚度的情況。玻璃和中間空氣層使用非干涉層模型。

日本Otsuka大塚FE-5000橢偏儀可在紫外波長    

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使用多點相同分析測量未知的超薄nk[FE-0014]

為了通過擬合最小二乘法來分析膜厚度值(d)需要材料nk。如果nk未知,則d和nk都被分析為可變參數(shù)。然而,在d為100nm或更小的超薄膜的情況下,d和nk是無法分離的,因此精度將降低并且將無法求出精確的d。在這種情況下,測量不同d的多個樣本,假設nk是相同的,并進行同時分析(多點相同分析),則可以高精度、精確地求出nk和d。

日本Otsuka大塚FE-5000橢偏儀可在紫外波長    

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