日本SEN日森：光學表面處理設備 返回列表頁

日本SEN日森：光學表面處理設備 SSP-48

日本SEN日森：光學表面處理設備 SSP-48

工作原理

光分解作用：可同時發(fā)射波長 254nm 和 185nm 的紫外光，這兩種波長的光子能量能夠直接打開和切斷有機物分子中的共價鍵，使有機物分子活化，分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子等。

光敏氧化作用：185nm 波長紫外光的光能量能將空氣中的氧氣（O?）分解成臭氧（O?）；254nm 波長的紫外光的光能量能將 O?分解成 O?和活性氧（O）?；钚匝踉樱∣）有強烈的氧化作用，與活化了的有機物分子發(fā)生氧化反應，生成揮發(fā)性氣體（如 CO?、CO、H?O、NO 等）逸出物體表面，從而清除粘附在物體表面上的有機污染物。

應用場景

電子行業(yè)：可用于液晶顯示器件、觸摸屏、半導體硅芯片、集成電路、高精度印制電路板等的表面清洗，去除光刻膠、油污、指紋等污染物，提高后續(xù)工藝的良品率和可靠性。

光學行業(yè)：能對光學器件、石英晶體等進行清洗，去除表面的灰塵、油污和有機雜質，保證光學性能和成像質量。

材料處理領域：用于各種基材的預處理，如金屬和玻璃，可改善表面潤濕性，提高對粘合劑、油漆和涂料的附著力。

其他領域：在密封技術、帶氧化膜的金屬材料處理等方面也有應用，有助于提高材料的表面性能和使用壽命。

高效的清洗能力：像其他 SEN 日森光學表面處理設備一樣，SSP-48 或許能發(fā)射特定波長的紫外線，利用紫外線的光分解和光敏氧化作用，快速有效地去除光學表面的有機物污染物，如指紋、油污、光刻膠殘留等，使光學表面達到較高的清潔度。

精準的處理效果：可能配備了高精度的光學系統(tǒng)和控制系統(tǒng)，能夠精確控制紫外線的照射角度、強度和時間，確保在處理光學表面時，不會對光學元件的性能和精度造成影響，可滿足不同光學元件的表面處理需求，如透鏡、棱鏡、反射鏡等。

良好的穩(wěn)定性：SEN 日森作為專業(yè)的設備制造商，其產(chǎn)品通常具有較好的穩(wěn)定性和可靠性。SSP-48 可能采用了優(yōu)質的材料和優(yōu)良的制造工藝，在長時間的運行過程中能夠保持穩(wěn)定的性能，減少設備故障和維護成本。

靈活的操作方式：或許具備多種操作模式和參數(shù)設置選項，用戶可以根據(jù)不同的光學表面處理要求，靈活調整設備的工作參數(shù)，如照射時間、功率等，以達到最佳的處理效果。同時，可能還具有友好的人機界面，方便操作人員進行操作和監(jiān)控。

可能的應用領域

光學鏡片制造：在光學鏡片的生產(chǎn)過程中，用于鏡片表面的清洗和預處理，去除鏡片表面的雜質和污染物，提高鏡片的透光率和成像質量，為后續(xù)的鍍膜等工藝提供良好的表面基礎。

光學儀器生產(chǎn)：可用于顯微鏡、望遠鏡、相機鏡頭等光學儀器的光學元件表面處理，確保光學元件的表面質量，提升光學儀器的性能和可靠性。

光通信行業(yè)：對光通信領域中的光纖連接器、光模塊等光學部件進行表面處理，去除表面的灰塵和油污，改善表面的光潔度，提高光信號的傳輸效率和穩(wěn)定性。

半導體制造：在半導體制造工藝中，用于光刻環(huán)節(jié)中光學掩模板等部件的表面清洗，保證光刻精度，提高半導體芯片的制造良率。