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OmniES-Plasma-等離子體發(fā)射光譜測量系統(tǒng)
  • OmniES-Plasma-等離子體發(fā)射光譜測量系統(tǒng)
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貨物所在地:北京北京市

地: 北京市中關(guān)村科技園區(qū)通州園金橋

更新時(shí)間:2025-01-13 10:18:18

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該系統(tǒng)用于測量等離子體發(fā)射光譜測量,采用模塊化設(shè)計(jì) 采用光纖導(dǎo)光或空間光耦合


● 該系統(tǒng)用于測量等離子體發(fā)射光譜測量,采用模塊化設(shè)計(jì)
● 采用光纖導(dǎo)光或空間光耦合
● 可定位測量空間位置(選配功能)
● 測量光譜范圍:200-2500nm或1μm-14μm
● 光譜分辨率:優(yōu)于0.05nm(@1200g/mm光柵)
● 波長準(zhǔn)確度:優(yōu)于±0.2nm
● 波長重復(fù)性:優(yōu)于±0.1nm
● 光譜儀控制軟件包含濾光片輪自動控制功能、光譜曲線繪制功能、全自動測量、數(shù)據(jù)運(yùn)算、保存及打印等功能

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