GC-7800氦離化檢測(cè)器分析依據(jù)標(biāo)準(zhǔn)：

1、高純氣標(biāo)準(zhǔn)
GB/T 8979-2008《高純氮》 GB/T 14599-2008《高純氧》
GB/T 4844.3-1995 《高純氦》 GB/T 4842-2006《氬》
GB/T 7445-1995 《純氫、高純氫、超純氫》 GB/T 17873-1999《純氖》
GB/T 5829-1995《氪氣》 GB/T 5828-1995《氙氣》
HG/T 3633-1999《純甲烷》 GB 10621-2006《食品添加劑 液體二氧化碳》

2、電子氣標(biāo)準(zhǔn)    氦離子化氣相色譜儀

GB/T 16942-2009《電子工業(yè)用氣體 氫》 GB/T 16943-2009《電子工業(yè)用氣體 氦》
GB/T 16944-2009《電子工業(yè)用氣體 氮》 GB/T 16945-2009《電子工業(yè)用氣體 氬》
GB/T 14604-2009《電子工業(yè)用氣體 氧》 GB/T 14600-2009《電子工業(yè)用氣體 氧化氬氮》
GB/T 14601-2009《電子工業(yè)用氣體 高純氨》 GB/T 14602-93《電子工業(yè)用氣體 *》
GB/T 14603-2009《電子工業(yè)用氣體 》 GB/T 18994-2003《電子工業(yè)用氣體 高純氯》
GB/T 14851-93《電子工業(yè)用氣體 *》 GB/T 17874-1999《電子工業(yè)用氣體 三氯化硼》
GB/T 15909-2009《電子工業(yè)用氣體 硅烷》 GB/T 21287-2007《電子工業(yè)用氣體 三氟化氮》

GC-7800PDD氦離子化氣相色譜儀

GC-7800PDD氦離子化氣相色譜儀適用于高純氣體、超高純氣體及電子工業(yè)用氣體中痕量雜質(zhì)的檢測(cè)。該產(chǎn)品以GC-7800氣相色譜儀為載體，配備VALCO公司生產(chǎn)的氦離子化（PDHID）檢測(cè)器；采用普瑞公司擁有專業(yè)技術(shù)的四閥五柱的中心切割與反吹技術(shù)，其中的所有進(jìn)樣和切換閥均為VALCO公司生產(chǎn)的帶吹掃保護(hù)氣路的六通或十通閥；上述部分與VALCO公司原裝的氦氣純化器、無(wú)死體積取樣閥等部件一起組成一套完整的高純氣體分析整體及解決方案。
高純氣體的分析是一個(gè)復(fù)雜的過(guò)程，不僅需要高靈敏的檢測(cè)器，還要考慮樣品本身的特性及其背景，如吸附、取樣及分析過(guò)程中是否有空氣混入、系統(tǒng)的密閉性、系統(tǒng)的死體積等環(huán)節(jié)，普瑞色譜公司總結(jié)了高純氣體分析過(guò)程中的技術(shù)難點(diǎn)，并給出了所有難點(diǎn)的解決措施，使GC-7800PDD氦離子化氣相色譜儀成為專業(yè)的高純氣體分析系統(tǒng)，很好的完成了氣體中微量雜質(zhì)，特別是ppb級(jí)的雜質(zhì)的分析。 

產(chǎn)品的特點(diǎn):

◆ 氣體行業(yè)專業(yè)色譜技術(shù)成套解決方案
◆ 采用VICI公司Valco帶吹掃型十通與六通切換閥控制氣路
◆ 應(yīng)用氣體分離色譜柱分離預(yù)切再分離技術(shù)
◆ 采用本公司技術(shù)的可分離與嵌入式單體控溫柱爐
◆ 工藝流程采用多路精密零死體閥控制多維色譜分離柱流量
◆ 分析流程全部采用Valco公司316不銹鋼管路與鍍金接頭
◆ 核心靈敏部件采用Valco公司PDHID脈沖氦離子檢測(cè)器
◆ 成套專業(yè)化的數(shù)字與全中文反控氣相色譜儀

技術(shù)特點(diǎn)：氦離子化氣相色譜儀

嵌入式32位處理器及多CPU系統(tǒng)開(kāi)發(fā)，IT接口相關(guān)技術(shù)，實(shí)現(xiàn)溫度參數(shù)自動(dòng)設(shè)置、檢測(cè)器選擇、檢測(cè)器操作參數(shù)和數(shù)據(jù)化自動(dòng)調(diào)零功能、靈敏度和極性數(shù)字化設(shè)置。
全中文菜單操作界面，同時(shí)可顯示多組參數(shù)，操作非常簡(jiǎn)單方便。
計(jì)算機(jī)反控功能，可以通過(guò)計(jì)算機(jī)操作儀器內(nèi)部所有功能（通過(guò)USB接口實(shí)現(xiàn)）。
高精度計(jì)時(shí)器集8路外部事件控制, 可集成多個(gè)文件對(duì)應(yīng)存儲(chǔ)。
無(wú)需外接工作站并提供模擬輸出接口。
氦離子化氣相色譜儀 

柱溫箱：

◆溫度范圍：室溫加5℃- 400℃
◆控制精度：±0.1℃
◆程序升溫：5階
◆zui大升溫速率：30℃/min
◆雙通道色譜柱流失補(bǔ)償

進(jìn)樣器：氦離子化氣相色譜儀 

◆zui多可裝載三個(gè)進(jìn)樣器（2個(gè)填充柱進(jìn)樣，1個(gè)毛細(xì)管柱進(jìn)樣）或2個(gè)毛細(xì)管柱進(jìn)樣器。
◆進(jìn)樣器單元：有獨(dú)立的分流/不分流進(jìn)樣器系統(tǒng)和填充柱進(jìn)樣器系統(tǒng)

檢測(cè)器:
◆zui多可裝載三個(gè)檢測(cè)器
◆氫火焰離子檢測(cè)器（FID）：
溫度范圍為室溫加7℃~ 400℃；檢測(cè)限 ≤1×10-11g/s
◆高靈敏度熱導(dǎo)檢測(cè)器（高TCD）：
溫度范圍為室溫加7℃~ 400℃；靈敏度≥3000mv•ml/mg

產(chǎn)品的成套配置:氦離子化氣相色譜儀

技術(shù)參數(shù)：
GC-7800PDD氦離化氣相色譜儀對(duì)6種雜質(zhì)的檢測(cè)限（ppb）
雜質(zhì)種類:   H2   O2   N2   CO   CH4   CO2
檢測(cè)限 :     5    10   10    25     5     5 

氦離子氣相色譜儀 

主要特點(diǎn)：

一、 中心切割與反吹系統(tǒng)：

GC-7800PDD氦離子化氣相色譜儀采用多閥多柱的中心切割與反吹系統(tǒng)，該系統(tǒng)由多個(gè)吹掃型十通閥及多根色譜聯(lián)合組成，通過(guò)工作站設(shè)置的時(shí)間程序自動(dòng)控制其進(jìn)樣、切換、切割與反吹等過(guò)程，完成包括高純氮、高純氫、高純氧、高純氦、高純二氧化碳、高純氬、氪氣、氙氣、氖氣等高純氣體以及硅烷等電子工業(yè)用氣體中痕量雜質(zhì)的檢測(cè)：
VALCO吹掃型十通閥：
GC-7800PDD氦離子化氣相色譜儀所配備的均為*VALCO生產(chǎn)的
經(jīng)特殊加工的色譜柱技術(shù)

氣體全分析流程：

二、 HP-2氦氣純化器：
可純化氣體：He、Ar、Ne、Kr、Xe、Rn
zui大操作壓力：1000Psi
去除氣體：H2、O2、N2、CO、CO2、CH4、H2O、NO、NH3、CF4等
殘留濃度：≤10ppb

三、 無(wú)死體積取樣閥 
四、 載氣減壓閥
五、 背壓閥控制的進(jìn)樣技術(shù)
六、 GC-7800氣相色譜儀


 GC-7800PDD標(biāo)氣分析報(bào)告氦離子化氣相色譜儀

氦氣（He）標(biāo)氣圖譜1 -----                

氦氣（He）樣品氣圖譜2-----                

高純氬氣（Ar）標(biāo)氣圖譜 -----            

高純氬氣（Ar）樣氣圖譜--------         
 
高純氮?dú)?/span>（N2）標(biāo)氣圖譜 -----            

高純氮?dú)?/span>（N2）樣氣圖譜--------          高純氫氣（H2）標(biāo)氣圖譜 -----            

氫氣發(fā)生器H2樣氣圖譜

 四氟化碳CF4標(biāo)氣圖譜
    硅烷雜質(zhì)色譜圖
  
硅烷中有機(jī)雜質(zhì)圖譜

 
   


 

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