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NexION 5000 ICP-MS新一代創(chuàng)新接口設(shè)計(jì)的優(yōu)勢(shì)

閱讀:394      發(fā)布時(shí)間:2020-07-22
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具有OmniRing的第二代三錐接口的新型設(shè)計(jì)專為NexION 5000 ICP-MS而研發(fā),兼顧了靈敏度和穩(wěn)定性。該設(shè)計(jì)以三錐接口幾何 結(jié)構(gòu)為基礎(chǔ),基于簡(jiǎn)單高效的OmniRing技術(shù)提供了*的應(yīng)對(duì)空 間電荷效應(yīng)的解決方案。該設(shè)計(jì)從ICP-MS理想接口的諸多特性著 手,通過(guò)減少離子流提高了傳輸效率,與此同時(shí),還以受控的方式 實(shí)現(xiàn)了離子通過(guò)接口后的加速,而不會(huì)將高能離子傳輸?shù)较掠坞x子 光學(xué)系統(tǒng)中。結(jié)果是在沒(méi)有提高儀器本底水平的情況下,大大提高 了分析物的信號(hào)強(qiáng)度。通過(guò)這種新型接口設(shè)計(jì),能夠在強(qiáng)健等離子 體條件下,直接以亞ppt級(jí)的背景等效濃度對(duì)復(fù)雜基質(zhì)進(jìn)行分析。 除了提高靈敏度,該接口設(shè)計(jì)還使NexION 5000 ICP-MS在處理 具有挑戰(zhàn)性的基體時(shí),彰顯出的穩(wěn)定性。這要?dú)w功于三級(jí) 壓降系統(tǒng),以及將那些如錐和離子透鏡等易于樣品沉積和離子濺射 的表面進(jìn)行盡量小化處理的設(shè)計(jì)。

提供商

珀金埃爾默企業(yè)管理(上海)有限公司

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