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■ 主 要 特 點(diǎn)
1.多樣自動(dòng)進(jìn)樣系統(tǒng)
2.計(jì)算機(jī)、噴墨打印機(jī)
3.真空泵(可選)、壓片機(jī)(可選)
4.硅針半導(dǎo)體探測(cè)器(美國(guó)產(chǎn))
5.放大電路(美國(guó)產(chǎn))、高低壓電源(美國(guó)產(chǎn))、X光管(美國(guó)產(chǎn))
■ 技 術(shù) 資 料
1.分析范圍:1PPM~99.99%;測(cè)量對(duì)象:固體、粉未、液體
2.同時(shí)分析:幾十種元素同時(shí)分析,測(cè)鍍層厚度精確至0.01微米
3.測(cè)量時(shí)間:60~300 秒,測(cè)量精度:0.05%
4.分析元素:Na~ U,工作溫度:15~ 26℃
5.相對(duì)濕度:≤70%,重量:100KG,功耗:200瓦
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