不少客戶在選購顆粒萃取設(shè)備時(shí)經(jīng)常會(huì)問到:你們?cè)O(shè)備的空白值能達(dá)到多少?這個(gè)問題有時(shí)候比較難回答,今天來談?wù)効瞻字档膯栴}。
1. VDA19對(duì)空白值的定義:在沒有零部件參與的情況下進(jìn)行空運(yùn)轉(zhuǎn)清洗,萃取過程規(guī)范和分析方法需要與即將進(jìn)行的測試*一致。
2. 允許的取決于零部件的清潔度要求。
3. 重量分析法:要求≤污染物重量的10%
如:該部件的污染物限值為20mg,那么要求≤2mg。
4.如果有附帶zui大顆粒尺寸要求,≤zui大顆粒尺寸/2
如:zui大顆粒限值為300um, 那么要求≤150um
5.顯微分析法:≤10% 允許的顆粒數(shù)量
6.在非實(shí)驗(yàn)室環(huán)境下,很難控制在1mg水平,不建議進(jìn)行清潔度要求低于10mg的實(shí)驗(yàn)。
由此可見,的控制應(yīng)以不影響下一次實(shí)驗(yàn)為目的,受多種因素影響,而不是*取決于設(shè)備自身。正確的測試流程如下:
一次完整的清洗流程
進(jìn)口濾膜
由于手動(dòng)顆粒萃取設(shè)備更容易受到環(huán)境 (空氣,檢測人員,工作場所等),清洗劑潔凈度等因素的影響,因此更有必要定期進(jìn)行的測試,以保證實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)的可靠性。
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