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材料的孔隙率是指材料內(nèi)部孔隙的體積占材料總體積的百分率，以P表示。孔隙率的測定是基于阿基米德原理，試驗中采用水煮法測定電極的孔隙率。首先稱量需要的試樣干重，記為m0；將稱量完地試樣放入干凈的燒杯中，往杯中注入蒸餾水，直至淹沒試樣。接著將燒杯置于電爐上加熱至沸騰，并保持沸騰狀態(tài)2h，使蒸餾水*滲透至TiO2電極中的空隙內(nèi)。然后停止加熱使其降至室溫。接著把試樣快速取出放入事先準(zhǔn)備好稱重用的小吊藍(lán)內(nèi)，將其掛在天平的吊鉤上，使試樣繼續(xù)浸沒于水中，稱取飽和試樣在水中的懸浮重，記為m1；將飽和試樣取出，用濕抹布小心地拭去飽和試樣表面的水，快速稱量飽和試樣的質(zhì)量，記為m2。通過公式算出電極的孔隙率P。P=（m2-m0）/(m2-m1)。
孔隙率的測定
鍍層的孔隙是指鍍層表面直至基體金屬的細(xì)小孔道。鍍層孔隙率反映了鍍層表面的致密程度，孔隙率大小直接影響防護(hù)鍍層的防護(hù)能力(主要是陰極性鍍層)。作為特殊性能要求的鍍層(如防滲碳、氮化等)，孔隙率測量也極為重要，它是衡量鍍層質(zhì)量的重要指標(biāo)。國家標(biāo)準(zhǔn)GB 5935規(guī)定了測定鍍層孔隙的方法有貼濾紙法、涂膏法、浸漬法、陽極電介測鍍層孔隙率法、氣相試驗法等。電鍍專業(yè)國家標(biāo)準(zhǔn)中，孔隙率試驗的標(biāo)準(zhǔn)為：GB／T l7721—1999金屬覆蓋層孔隙率試驗：鐵試劑試驗，GB／T l8179--2000金屬覆蓋層孔隙率試驗：潮濕硫(硫化)試驗。
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