產(chǎn)品推薦：氣相|液相|光譜|質(zhì)譜|電化學(xué)|元素分析|水分測定儀|樣品前處理|試驗機|培養(yǎng)箱

2024版儀器采購寶典電子書

化工儀器網(wǎng)>技術(shù)中心>技術(shù)參數(shù)>正文

歡迎聯(lián)系我

有什么可以幫您？ 在線咨詢

相差顯微鏡成像原理

來源：北京瑞科中儀科技有限公司   2011年10月03日 18:28  

 

相差顯微鏡的成像原理
（一）阿貝成像原理
    為了理解相差顯微鏡的原理，不得不回顧普通顯微鏡的成像原理。德國光學(xué)家阿貝
（E. Abbe）從1874年以后創(chuàng)立了成像原理.在現(xiàn)代波動光學(xué)的發(fā)展基礎(chǔ)上興起的變換光學(xué)
中的空間信息濾波和信息處理概念，就是奠基于阿貝成像原理。
奧林巴斯顯微鏡
    據(jù)阿貝的看法，顯微鏡物鏡的透鏡或透鏡組不只是反映物平面和像平面的共扼關(guān)系，
而且也反映透鏡前后的無數(shù)個對應(yīng)平面的共扼關(guān)系。當然，顯微鏡的成像光路中zui為重要
的共扼面還是物平面和像平面（圖10-18,0--0'）.顯微鏡成像光路中同樣具有重要的共
扼面是發(fā)光平面（（L）和光源的像平面（L'）。
    但是如果在顯徽鏡結(jié)構(gòu)中在聚光鏡的前焦面上放置孔徑光欄時，那么光源和光源像
兩平面的共轆關(guān)系，代之以聚光鏡前焦面的光欄平面和物鏡后焦面的L"平面的共扼關(guān)系
（圖10-19）。
    阿貝認為發(fā)光平面的共扼面即L’平面，是顯微鏡的初級成像平面，而物平面是次級
成像平面。若通俗一點來講，L‘燭光是L燭光的像，而O‘空間是L'燭光的像。
    如果我們在顯微鏡的初級成像光路上在聚光鏡和物鏡之間，擂入一張不同光密度的
標本O（圖10-20上是光柵）時，立即破壞了初級成像光路.這是因為標本細節(jié)的光密結(jié)構(gòu)
（柵）和光疏結(jié)構(gòu)（間隙）的折射率不同，而產(chǎn)生光的衍射。其結(jié)果如圖10-20所示，L燭光在它的像平面上出現(xiàn)了數(shù)支燭光。與此同時，在像平面上出現(xiàn)標本0的干涉像.這些干涉紋是由次波源。，一1,+1發(fā)射的衍射光的重疊所造成的。這樣由于標本的干涉次級成像過程，已由L' ---0’的共扼面改變成0---0’的共扼面。也就是說像平面上不是L，的像，而是標本0的像了。
    總之，相干成像過程的*步是形成衍射斑，而第二步是相干干涉.當然未染色生物標本細節(jié)的折射率有很小的差異，在像平面上的對比度非常小。為了提高物像的對比度（反差），荷蘭物理學(xué)家（F. Zernike（1935）設(shè)計了相差顯微鏡的基本部件如環(huán)狀光欄和位相板。
    從阿貝成像原理已經(jīng)知道顯微鏡的聚光鏡前焦面上放置孔徑光欄時，這個平面就成為物鏡后焦面的共扼面。F. Zernike在這個平面上放置了環(huán)狀光欄，按空間濾波概念，稱帶通濾波器。
 環(huán)狀光欄給物鏡后焦面提供的是照射在環(huán)形甲像平面上的相干光束。照射在環(huán)形像平面上的相圖10-20顯徽鏡的成像光路干光束，不同于線形窄縫所提供的相干光束.前者不能造成帶有方向性衍射斑.在共扼面上的光分布強度也不像窄縫衍射那種零級強度。它所造成的衍射光是均勻的無方向性的.
    F. Zernike在相差顯微鏡的物鏡后焦面上放置了位相板。恰巧位相板的吸收環(huán)變成環(huán)狀光欄的成像平面。其結(jié)果就像F. Zernike指出的，如果人工地改變照射到不吸光物體而形成初級成像光束的光波，以此來改變衍射光和直射光的位相和振幅，使之近似乎吸光物體的初級成像光束時，那么其結(jié)果就造成*像吸光物體的次級成像，也就是加強了物體細節(jié)的反襯度。
巧妙地使用位相板，就能夠使物像平面上的光強度分布與物體細節(jié)的位相信息成為線性關(guān)系.也就是人工地用物體細節(jié)的位相分布調(diào)整像平面的光強分布。甚至巧妙地選配不同類型的位相板，使之適合于物體細節(jié)的折射率時，可以強使物像平面上的反襯度出現(xiàn)逆轉(zhuǎn)，即由明反差改變?yōu)榘捣床睿蛘叻粗?/div>

免責(zé)聲明

  • 凡本網(wǎng)注明“來源：化工儀器網(wǎng)”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品，未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的，應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用，并注明“來源：化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者，本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
  • 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源（非化工儀器網(wǎng)）的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責(zé)，不承擔此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時，必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源，并自負版權(quán)等法律責(zé)任。
  • 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題，請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系，否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。
企業(yè)未開通此功能
詳詢客服 : 0571-87858618