高性能比表面積及微孔分析儀助力MOF復(fù)合膜氣體分離研究
BSD-PM (3H-2000PM) 系列高性能比表面積及微孔分析儀助力MOF復(fù)合膜氣體分離研究
膜技術(shù)因其具有操作簡(jiǎn)單、能耗低、環(huán)境友好等優(yōu)點(diǎn),使氣體分離領(lǐng)域取得了重大的商業(yè)進(jìn)展。
天津大學(xué)王志教授課題組和Michael D. Guiver教授課題組在《Advanced Materials》上發(fā)表的題為“Unobstructed Ultrathin Gas Transport Channels in Composite Membranes by Interfacial Self-Assembly”的研究論文中,報(bào)道了一種利用重力誘導(dǎo)界面自組裝的方法,在聚合物修飾的MOF復(fù)合材料混合基質(zhì)膜中制造超薄通暢的氣體傳輸通道,該方法充分發(fā)揮了MOFs具有的結(jié)構(gòu)均勻、多孔性強(qiáng)、比表面積大、孔道可調(diào)、性能可控等優(yōu)點(diǎn)優(yōu)勢(shì),顯著提升了膜性能。
該研究利用聚乙烯基胺(PVAm)和γ-縮水甘油醚氧丙基三甲氧基硅(KH560)對(duì)MIL-101(Cr)納米顆粒的界面層進(jìn)行親水改性,KH560以共價(jià)鍵的形式將MIL-101(Cr)與PVAm緊密連接,改性后的納米顆粒命名MKP。通過(guò)比表面積及孔徑分析儀(如下圖,貝士德儀器, 3H-2000PM1)表征了MKP及MIL-101(Cr)納米材料的BET比表面積、孔徑分布及總孔體積;通過(guò)掃描電子顯微鏡、透射電鏡、熱重分析、X射線衍射儀、紅外光譜等表征了材料的其它性能;最后,將MKP納米顆粒與聚合物基質(zhì)PVAm間的界面自組具有超薄無(wú)阻塞氣體輸運(yùn)通道的MKP-PVAm /mPSf混合基質(zhì)膜,研究了其對(duì)于CO2/N2 (體積比為15/85)的混合氣體選擇性。
研究結(jié)果表明,在進(jìn)氣壓力為0.50 MPa時(shí),MKP-PVAm /mPSf膜負(fù)載率為44.44 wt%時(shí),CO2的滲透率為823 GPU, CO2/N2混合氣體選擇性為242。該混合基質(zhì)膜在模擬真實(shí)煙道氣環(huán)境下也表現(xiàn)出長(zhǎng)期穩(wěn)定性。此外,這種構(gòu)建超薄通暢氣體輸送通道的設(shè)計(jì)理念和方法也適于制備其它具有不同多孔材料和聚合物基質(zhì)的混合基質(zhì)膜,以實(shí)現(xiàn)較高的氣體分離性能。
BSD-PM系列(3H-PM) 高性能比表面積及微孔分析儀
BSD-PM系列高性能比表面積及微孔分析儀屬于研究級(jí)儀器,可測(cè)試材料的比表面積、總孔容、孔徑分布和吸附脫附數(shù)據(jù),尤其可對(duì)微孔材料的孔徑分布給出更準(zhǔn)確測(cè)試結(jié)果,可升級(jí)為雙站微孔測(cè)試功能,適用于對(duì)研發(fā)、實(shí)驗(yàn)要求嚴(yán)格的科研單位和企業(yè)用戶。集裝閥門和管路設(shè)計(jì),模塊化組裝,保證儀器高真空度和高密封性,是高性能和高穩(wěn)定性的典型產(chǎn)品。
測(cè)試?yán)碚摚?/span>
吸附、脫附等溫線;
朗格繆爾(Langmuir)比表面;
BJH法孔容孔徑分布;
D-R法微孔分析;
H-K法(Original)微孔分析
DFT孔徑分析;
具有IAST理論模型 BET比表面 (單點(diǎn)/多點(diǎn)法);
統(tǒng)計(jì)吸附層厚度法外比表面;
MK-plate法(平行板模型)孔容孔徑分布;
t-plot法(Boder)微孔分析;
MP法(Brunauer) 微孔分析;
真密度測(cè)試、粒度估算報(bào)告;
吸附/脫附報(bào)告模型
主要功能:
適用于非腐蝕性氣體(如N2,CO2 等)氣體的吸附脫附等溫線、比表面積及微孔孔徑分析。
技術(shù)參數(shù):
分壓范圍:10-8~0.998
壓力測(cè)量:多級(jí)壓力傳感器,精度0.1%
吸附溫度范圍:-196℃-400℃
測(cè)試報(bào)告:
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來(lái)源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來(lái)源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來(lái)源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來(lái)源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。