產(chǎn)品推薦:氣相|液相|光譜|質(zhì)譜|電化學|元素分析|水分測定儀|樣品前處理|試驗機|培養(yǎng)箱


化工儀器網(wǎng)>技術(shù)中心>其他文章>正文

歡迎聯(lián)系我

有什么可以幫您? 在線咨詢

雙光子無掩膜光刻的原理介紹

來源:納糯三維科技(上海)有限公司Nanoscribe   2023年08月11日 13:28  
  一、受益于雙光子灰度光刻對體素的微調(diào),該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達到超光滑,同時保持高精度的形狀控制。從納米到介觀尺度原型制作:同類中先的3D打印系統(tǒng)??纱蛴∪魏涡螤睿驯还I(yè)界認可的QuantumX平臺的二代加工系統(tǒng)。
 
  二、原理作用過程:
 
  (1)通過系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來大大提高實用性。通過系統(tǒng)自帶的nanoConnectX軟件來進行打印文件的遠程監(jiān)控及多用戶的使用配置,實現(xiàn)推動工業(yè)標準化及基于晶圓批量效率生產(chǎn)。
 
  (2)不僅是應用于生物醫(yī)學、微光學、MEMS、微流道、表面工程學及其他很多領域中器件的快速原型制作的理想工具,同時也成為基于晶圓的小結(jié)構(gòu)單元的批量生產(chǎn)的簡易工具。
 
  三、特點與優(yōu)勢:
 
  1.自動化自校準路徑保證的高精度激光能量控制及定位
 
  2.可達6英寸基片和硅片的廣泛選擇
 
  3.工業(yè)化批量生產(chǎn):200個標準介觀尺度結(jié)構(gòu)通宵產(chǎn)量
 
  4.保證實用性和體驗感的觸控屏和遠程控制功能
 
  5.快速原型制作,高精度,高設計自由度,簡易明了的工作流程
 
  6.工業(yè)驗證的晶圓級批量生產(chǎn)

免責聲明

  • 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責任。
  • 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責,不承擔此類作品侵權(quán)行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負版權(quán)等法律責任。
  • 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。
企業(yè)未開通此功能
詳詢客服 : 0571-87858618