實驗中精密光學平臺的選擇與要求-安合盟光學平臺

精密光學平臺的應(yīng)用選擇和要求 精密光學平臺分為兩大類:氣蘘減振及機械阻尼減振,氣蘘減振可獲得較低的頻率（0.7-3）Hz,機械阻尼減振效果稍遜（3-6）Hz所采用不同的方法減振效果也不同,在選擇

精密光學平臺的應(yīng)用選擇和要求
精密光學平臺分為兩大類:氣蘘減振及機械阻尼減振,氣蘘減振可獲得較低的頻率（0.7-3）Hz,機械阻尼減振效果稍遜（3-6）Hz所采用不同的方法減振效果也不同,在選擇光學平臺的時候要考慮所要求的光學平臺其減振性能與實驗采集數(shù)據(jù)的精密性相適應(yīng),儀器器件調(diào)試精密度與穩(wěn)定性能也直接影響數(shù)據(jù)的正常采集.光學平臺在整個實驗儀器器件中承擔的角色是承載、固定、排除減弱外界振源對儀器器件干擾，光學平臺的用途廣泛:以作為在光全息技術(shù),光譜實驗技術(shù),激光聚變技術(shù),現(xiàn)代光學技術(shù),精密檢測技術(shù),集成電子技術(shù),光纖通訊及醫(yī)療生物等現(xiàn)代科學研究工程中的基礎(chǔ)設(shè)備.鑒于光學平臺在實驗中的作用,因此要求制造的光學平臺具有剛度強、形變量小、承載能力大、減振效果好、對儀器器件的固定和保護還要求光學平臺的表面具有光潔、防腐、防銹、平整、方便固定器件.在材料選擇上采用強度較高的中碳鋼,平臺的表面則選用防腐、防銹的導磁不銹鋼.但在要求防電磁場干擾的情況下也全部采用不導磁不銹鋼。當光學平臺作為科學研究的基礎(chǔ)設(shè)備時需要相對長的時間穩(wěn)定和瞬時快速采集數(shù)據(jù)所要求振動振幅,頻率（Hz）.提高光學平臺所有技術(shù)指標并不是*的選擇.外部壞境對光學平臺影響也是不可忽視的因素.

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